[发明专利]气化装置、成膜装置、程序记录介质及浓度控制方法在审
申请号: | 202010080528.X | 申请日: | 2020-02-05 |
公开(公告)号: | CN111560600A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 志水彻;南雅和 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场STEC |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52;C23C14/22;C23C14/54 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 张欣;金玉兰 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气化 装置 程序 记录 介质 浓度 控制 方法 | ||
提供气化装置、成膜装置、程序记录介质及浓度控制方法。气化装置具备气化罐、载气供给路径、材料气体导出路径、浓度监测器和浓度控制机构,上述浓度控制机构具备:浓度计算部,基于来自上述浓度监测器的输出信号计算上述材料气体的实际浓度;浓度控制部,在供给上述材料气体的供给期间,进行以使构成上述浓度控制机构的流体控制设备的控制值成为预先设定的初始设定值的方式进行控制的第一控制后,进行以通过控制该流体控制设备而使上述实际浓度接近预先设定的目标值的方式进行反馈控制的第二控制;以及控制切换部,基于上述浓度控制部开始上述第一控制后的上述实际浓度的经时变化,将上述浓度控制部的控制状态从上述第一控制切换到上述第二控制。
技术领域
本发明涉及气化装置、成膜装置、程序记录介质及浓度控制方法。
背景技术
以往,作为向半导体制造工序等中的成膜装置的腔室供给使液体或者固体的材料气化而形成的材料气体的气化装置,在专利文献1中记载了通过向储存材料的气化罐间歇地提供载气,从气化罐间歇地导出使该材料气化而成的材料气体后,将用稀释气体对导出的材料气体进行稀释而得到的混合气体供给到腔室。
应予说明,在所述现有的气化装置中,构成为重复材料气体的供给期间和停止该供给的停止时间,以使从供给期间刚开始后,混合气体所含的材料气体的实际浓度接近于预先设定的目标值的方式进行反馈控制。
然而,如果像所述现有的气化装置那样从供给期间刚开始后进行反馈控制,则成为控制对象的流体控制设备(具体而言为流量控制设备、压力控制设备等)或是气化罐与浓度监测器之间的距离会导致产生时间延迟,存在在供给期间刚开始后材料气体的浓度大幅过冲的问题。
现有技术文献
专利文献1:日本特开2014-224307号公报
发明内容
技术问题
在此,本发明的主要课题在于抑制供给期间刚开始后的材料气体的浓度的过冲。
技术方案
即,本发明的浓度控制装置的特征在于是气化装置,具备:气化罐,其储存液体或者固体的材料;载气供给路径,其向上述气化罐供给载气;材料气体导出路径,其流通使上述材料气化而从上述气化罐导出的材料气体;浓度监测器,其设置于上述材料气体导出路径;浓度控制机构,其具备对从上述材料气体导出路径导出的材料气体的浓度进行控制的流体控制设备,上述气化装置重复进行上述材料气体的供给和停止,上述浓度控制机构具备:浓度计算部,其基于来自上述浓度监测器的输出信号计算上述材料气体的实际浓度;浓度控制部,其在供给上述材料气体的供给期间,进行以使构成上述浓度控制机构的流体控制设备的控制值成为预先设定的初始设定值的方式进行控制的第一控制之后,进行以通过控制该流体控制设备而使上述实际浓度接近预先设定的目标值的方式进行反馈控制的第二控制;以及控制切换部,其基于上述浓度控制部开始上述第一控制之后的上述实际浓度的经时变化,将上述浓度控制部的控制状态从上述第一控制切换到上述第二控制。
由此,构成为在供给上述材料气体的供给期间,进行以使构成上述浓度控制机构的流体控制设备的控制值成为预先设定的初始设定值的方式进行控制的第一控制之后,进行以通过控制该流体控制设备而使上述实际浓度接近预先设定的目标值的方式进行反馈控制的第二控制,且基于该第一控制开始之后的实际浓度的经时变化,从第一控制切换为第二控制,因此与像现有的气化装置那样从供给期间刚开始之后进行反馈控制的情况相比,抑制供给期间刚开始之后的过冲。应予说明,控制值是流体控制设备的控制对象的值,在流体控制设备为流量控制设备的情况下表示流量,在流体控制设备为压力控制设备的情况下表示压力。另外,初始设定值是指供给期间开始时的流体控制设备的设定值。
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