[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀掩模装置及其制造方法、中间体、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法在审
| 申请号： | 202010076841.6 | 申请日： | 2020-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN111485194A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 池永知加雄 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 邓毅;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 装置 及其 制造 方法 中间体 有机 el 显示装置 | ||
1.一种蒸镀掩模，其特征在于，
所述蒸镀掩模具备：
掩模主体；和
支承体，其接合于所述掩模主体，
所述掩模主体具有第1校准标识，所述支承体具有第2校准标识，
所述第1校准标识和所述第2校准标识被设置于在俯视时互相重合的位置，并且所述第1校准标识和所述第2校准标识中的任意一方比另一方大。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述掩模主体具有形成有多个贯通孔的镀层。
3.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述掩模主体具有互相层叠的金属层和树脂掩模。
4.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述第1校准标识是形成于所述掩模主体的贯通孔。
5.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述第2校准标识是形成于所述支承体的贯通孔。
6.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述第2校准标识是凹陷至所述支承体的厚度方向中途的非贯通孔。
7.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述支承体包含：位于所述掩模主体侧的第1支承基板；和位于所述第1支承基板上的第2支承基板，所述第2校准标识包含：所述第1支承基板的第1部分；和所述第2支承基板的第2部分，所述第1部分在俯视时比所述第2部分小。
8.一种蒸镀掩模装置，其特征在于，
所述蒸镀掩模装置具备：
权利要求1所述的蒸镀掩模；和
框架，其接合于所述蒸镀掩模的所述支承体。
9.一种中间体，其特征在于，
所述中间体具备：
基材；
掩模主体，其接合于所述基材；以及
支承体，其接合于所述掩模主体，
所述掩模主体具有第1校准标识，所述支承体具有第2校准标识，
所述第1校准标识和所述第2校准标识被设置于在俯视时互相重合的位置，并且所述第1校准标识和所述第2校准标识中的任意一方比另一方大。
10.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述掩模主体具有形成有多个贯通孔的镀层。
11.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述掩模主体具有互相层叠的金属层和树脂掩模。
12.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述第1校准标识是形成于所述掩模主体的贯通孔。
13.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述第1校准标识是形成于所述基材上的岛状的突起。
14.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述第2校准标识是形成于所述支承体的贯通孔。
15.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述第2校准标识是凹陷至所述支承体的厚度方向中途的非贯通孔。
16.根据权利要求9所述的中间体，其特征在于，
所述支承体包含：位于所述掩模主体侧的第1支承基板；和位于所述第1支承基板上的第2支承基板，所述第2校准标识包含：所述第1支承基板的第1部分；和所述第2支承基板的第2部分，所述第1部分在俯视时比所述第2部分小。
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