[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202010074732.0 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN112310053A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 川城史义 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L25/07 | 分类号: | H01L25/07;H01L23/12;H01L23/367;H01L21/50 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
实施方式提供成品率提高的半导体装置。半导体装置具备第1基体部件,具有第1侧面;第1绝缘板,设置于第1基体部件的上方;第1金属板,设置于第1绝缘板的上方;第1半导体芯片,设置于第1金属板的上方;第1接合部件,将第1金属板与第1半导体芯片接合;第2接合部件,将第1基体部件与第1绝缘板接合;第2基体部件,具有第2侧面;第2绝缘板,设置于第2基体部件的上方;第2金属板,设置于第2绝缘板的上方;第2半导体芯片,设置于第2金属板的上方;第3接合部件,将第2金属板与第2半导体芯片接合;第4接合部件,将第2基体部件与第2绝缘板接合;以及基体接合部,设置于第1侧面与第2侧面之间,第1侧面与第2侧面接合。
关联申请
本申请享受以日本专利申请2019-143385号(申请日:2019年8月2日)为基础申请的优先权。本申请通过参考该基础申请而包括基础申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及半导体装置。
背景技术
正在进行面向发电及/或送电、泵、吹风机等回转机械、通信系统及工厂等的电源装置、基于交流电机的铁道、电动车、家庭用电器产品等的较宽领域的、MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor,金属氧化物半导体场效应晶体管)、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor,绝缘栅双极型晶体管)等的、设计为电力控制用的功率半导体芯片的开发。
另外,正在进行使用了该功率半导体芯片的、作为功率模块的半导体装置的开发。这样的半导体装置要求高电流密度化、低损耗化、高散热化等的技术条件。
发明内容
本发明的实施方式提供成品率提高的半导体装置。
实施方式的半导体装置具备:第1基体部件,具有第1侧面;第1绝缘板,设置于第1基体部件的上方;第1金属板,设置于第1绝缘板的上方;第1半导体芯片,设置于第1金属板的上方;第1接合部件,将第1金属板与第1半导体芯片接合;第2接合部件,将第1基体部件与第1绝缘板接合;第2基体部件,具有第2侧面;第2绝缘板,设置于第2基体部件的上方;第2金属板,设置于第2绝缘板的上方;第2半导体芯片,设置于第2金属板的上方;第3接合部件,将第2金属板与第2半导体芯片接合;第4接合部件,将第2基体部件与第2绝缘板接合;以及基体接合部,设置于第1侧面与第2侧面之间,第1侧面与第2侧面被接合。
附图说明
图1是第1实施方式的半导体装置的示意剖视图。
图2是表示第1实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
图3是成为第1实施方式的比较方式的半导体装置的示意剖视图。
图4是表示第2实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
图5是表示第3实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
图6是第4实施方式的半导体装置的示意剖视图。
图7是表示第4实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
图8是表示第5实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
图9是第6实施方式的半导体装置的示意剖视图。
图10是表示第6实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
图11是第7实施方式的半导体装置的示意剖视图。
图12是第8实施方式的半导体装置的示意剖视图。
图13是表示第8实施方式的半导体装置的制造方法的流程图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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