[发明专利]工艺环境控制方法及系统在审

专利信息
申请号: 202010071147.5 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN111339636A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 刘建涛;张立超;刘耀琴;肖托;陈洪 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F119/18
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 工艺 环境 控制 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种工艺环境控制方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

S1、依据时间序列依次获取工艺环境状态参量截止至k-1时刻的历史输入值和历史输出值,以构建历史数据向量;其中,k为当前时刻;

S2、基于所述历史数据向量,采用递推最小二乘法计算获得预先建立的模型在k时刻的模型参数;

S3、将所述模型参数输入所述模型,以得到所述工艺环境状态参量在k时刻的当前输入值,并发送至被控对象;

S4、将所述k-1时刻替换为k时刻,并返回所述步骤S1。

2.根据权利要求1所述的工艺环境控制方法,其特征在于,所述模型为多输入多输出的自回归移动平均模型。

3.根据权利要求2所述的工艺环境控制方法,其特征在于,

所述模型满足以下函数公式:

其中,i,j=1,2,…,N,N为所述历史输入值和所述历史输出值各自的采样个数,且N大于1;

u(k-d)为所述工艺环境状态参量在k时刻的当前输入值,d为采样时延;

yi(k)为所述模型参数;

Ai(Z-1)、Aj(Z-1)和Bi(Z-1)均为多项式矩阵。

4.根据权利要求3所述的工艺环境控制方法,其特征在于,所述步骤S2进一步包括以下步骤:

S21、基于所述历史数据向量,并利用下述θ(k)、K(k)和P(k)的公式采用所述递推最小二乘法递推计算获得θ(k);

其中,θ(k)和θ(k-1)分别为在k时刻和k-1时刻,所述递推最小二乘法待求得的未知数据与实际数据之间误差的平方和的最小值;K(k)为增益矩阵;P(k)为逆矩阵;y(k)为所述历史输出值;为截止至k-d时刻的所述历史数据向量的矩阵转置;为截止至k-d时刻的所述历史数据向量;

S22、将θ(k)和代入公式以计算获得y(k);

其中,为截止至k-1时刻的所述历史数据向量;y(k)为所述模型参数。

5.根据权利要求4所述的工艺环境控制方法,其特征在于,在所述步骤S1之前,还包括以下步骤:

S0,设置θ(0)和P(0)的初始值;

其中,使θ(0)=0,P(0)=αI,α为指定大小的正数;I为单位矩阵。

6.根据权利要求1所述的工艺环境控制方法,其特征在于,所述工艺环境状态参量包括腔室温度、腔室压力或者输送至腔室内的气体流量。

7.一种工艺环境控制系统,其特征在于,包括:

获取模块,用于依据时间序列依次获取工艺环境状态参量截止至k-1时刻的历史输入值和历史输出值,以构建历史数据向量;其中,k为当前时刻;

计算模块,用于基于所述历史数据向量,采用递推最小二乘法计算获得预先建立的模型在k时刻的模型参数;

控制模块,用于将所述模型参数输入所述模型,以得到所述工艺环境状态参量在k时刻的当前输入值,并发送至被控对象,然后将所述k-1时刻替换为k时刻,并向所述获取模块发送控制信号。

8.根据权利要求7所述的工艺环境控制系统,其特征在于,

所述模型满足以下函数公式:

其中,i,j=1,2,…,N,N为所述历史输入值和所述历史输出值各自的采样个数,且N大于1;

u(k-d)为所述工艺环境状态参量在k时刻的当前输入值,d为采样时延;

yi(k)为所述模型参数;

Ai(Z-1)、Aj(Z-1)和Bi(Z-1)均为多项式矩阵。

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