[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法在审
申请号: | 202010068085.2 | 申请日: | 2020-01-21 |
公开(公告)号: | CN111505908A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 大阪昇 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李今子 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 光学系统 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
本发明公开照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。照明光学系统使用从光源射出的非相干光对被照明面进行照明。所述照明光学系统包括:积分器,配置于所述光源与所述被照明面之间;光学系统,配置于所述积分器与所述被照明面之间;以及光学元件,配置于所述积分器与所述光学系统之间,所述光学元件包括楔形形状部。
技术领域
本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。
背景技术
在用于制造半导体装置或者显示装置等物品的光刻工序中,能够使用曝光装置。在曝光装置中,在1次的曝光处理中曝光的1个拍摄区域的尺寸各种各样。例如,在显示装置的制造中能够使用的第8代的基板具有纵2200mm×横2400mm的尺寸,能够在该基板上配置多个拍摄区域。在将基板纵向2分割、横向2分割而配置4个拍摄区域的情况下,1个拍摄区域能够成为纵1100mm×横1200mm。在将基板纵向2分割、横向3分割而配置6个拍摄区域的情况下,1个拍摄区域能够成为纵1100mm×横800mm。
在专利文献1中,记载了一种曝光装置,具有:聚光镜,对来自放电灯的光进行聚光;以及积分透镜,设置于来自该聚光镜的光的聚光位置,其中,设为能够将该积分透镜与发散角度不同的其它积分透镜更换。在这样的曝光装置中,例如,在从具有宽的曝光面积的工件变更为具有窄的曝光面积的工件的情况下,从发散角度大的积分透镜变更为发散角度小的积分透镜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平3-165023号公报
发明内容
在专利文献1记载的技术中,在从具有某个发散角度的积分器更换为具有其它发散角度的积分器的情况下,曝光面积(原版的照明范围)变化,但曝光范围的重心位置仍原样地固定于光轴。即,在专利文献1记载的技术中,由于积分器的更换而变化的只不过是以光轴为中心的曝光范围的半径。因此,专利文献1记载的技术难以应用于使用通过配置于远离光轴的位置的狭缝的狭缝光来进行曝光的扫描曝光技术。这是因为,在扫描曝光装置中,在减小与扫描方向正交的方向上的狭缝的宽度的情况下,如果与其对应地减小原版的照明范围,则有可能无法对狭缝的整个域进行照明。此外,为了变更照明范围的位置(例如重心位置),考虑变更照明光学系统相对投影光学系统的位置,但在这样的方式中,在照明光学系统的位置的变更中可能需要长时间。
本发明的目的在于提供一种有利于容易地变更照明范围的位置的技术。
本发明的第1侧面涉及使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统,所述照明光学系统包括:积分器,配置于所述光源与所述被照明面之间;光学系统,配置于所述积分器与所述被照明面之间;以及光学元件,配置于所述积分器与所述光学系统之间,所述光学元件包括楔形形状部。
本发明的第2侧面涉及使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统,所述照明光学系统包括:积分器,从射出角相互不同的多个积分器选择、且配置于所述光源与所述被照明面之间;光学系统,配置于所述积分器与所述被照明面之间;以及光学元件,配置于所述积分器与所述光学系统之间,所述光学元件包括楔形形状部。
本发明的第3侧面涉及曝光装置,所述曝光装置具备:所述第1或者第2侧面所涉及的照明光学系统;以及投影光学系统,将配置于所述照明光学系统的所述被照明面的原版的图案投影到基板。
本发明的第4侧面涉及物品制造方法,所述物品制造方法包括:曝光工序,使用所述第3侧面所涉及的曝光装置对基板进行曝光;以及显影工序,对在所述曝光工序中曝光的所述基板进行显影,根据所述基板制造物品。
根据本发明,提供有利于容易地变更照明范围的位置的技术。
附图说明
图1是示出第1实施方式的照明光学系统的第1使用方式的图。
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