[发明专利]控制装置、曝光装置以及物品的制造方法在审
| 申请号： | 202010061877.7 | 申请日： | 2020-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN111487847A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 茂木威史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张劲松 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 控制 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
1.一种控制装置，包括：
多个电流源，每个电流源被配置为基于PWM方法供给电流；
第一检测单元，所述第一检测单元被配置为检测驱动单元的驱动状态；以及
控制单元，所述控制单元被配置为当基于所述第一检测单元的检测结果而从所述多个电流源供给并且是驱动所述驱动单元所需要的多个电流中的至少一个电流的值是预定值时，改变所述多个电流的值。
2.根据权利要求1所述的控制装置，其中，所述控制单元被配置为将驱动所述驱动单元所需要的所述多个电流的值与存储在所述控制单元中的所述预定值进行比较。
3.根据权利要求1所述的控制装置，还包括第二检测单元，所述第二检测单元被配置为检测所述多个电流，
其中，所述控制单元被配置为当所述第二检测单元检测到所述多个电流中的至少一个电流的值是所述预定值时，改变所述多个电流的值。
4.根据权利要求1所述的控制装置，其中，所述预定值是涉及由所述PWM方法引起的失真并且在所述多个电流源中测量的电流的值。
5.根据权利要求1所述的控制装置，其中，所述预定值是在所述驱动单元的稳定中所需要的电流的值。
6.根据权利要求1所述的控制装置，其中，所述预定值是在所述驱动单元的驱动中所需要的电流的值。
7.一种控制装置，包括：
至少一个电流源，所述至少一个电流源被配置为基于PWM方法供给电流；
第一检测单元，所述第一检测单元被配置为检测驱动单元的驱动状态；以及
控制单元，所述控制单元被配置为当基于所述第一检测单元的检测结果而从所述至少一个电流源供给并且是驱动所述驱动单元所需要的至少一个电流的值是预定值时，改变所述驱动单元的位置。
8.一种曝光装置，包括：
根据权利要求1至7中的任一项所述的控制装置；以及
工作台，所述工作台通过使用由所述控制装置供给的电流来驱动。
9.一种物品的制造方法，包括：
通过使用根据权利要求8所述的曝光装置来使基板曝光；以及
使所述基板显影，
其中，所述物品是从经显影的基板制造的。
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