[发明专利]控制装置、曝光装置以及物品的制造方法

说明书

本发明公开了控制装置、曝光装置以及物品的制造方法。为了提供可以利用其以简单的配置以高的精度控制驱动单元的驱动的控制装置，根据本发明的控制装置(100)包括：多个电流源(20)，每个电流源(20)被配置为基于PWM方法供给电流；第一检测单元，该第一检测单元被配置为检测驱动单元(14)的驱动状态；以及控制单元(50)，该控制单元(50)被配置当基于第一检测单元的检测结果而从多个电流源(20)供给并且是驱动驱动单元(14)所需要的多个电流(Ixf，Ixb，Iyl和Iyr)中的至少一个电流的值是预定值时，改变多个电流(Ixf，Ixb，Iyl和Iyr)的值。

技术领域

本发明涉及控制装置，并且更特别地，涉及适合于控制曝光装置中的工作台(stage)的驱动的控制装置。

背景技术

随着旨在提高半导体曝光装置的生产率的工作台的高速驱动的最近进展，需要用于驱动这样的工作台的控制装置实现大电流和高电压。

在适于实现大电流和高电压并且被配置为控制例如工作台的驱动单元的驱动的控制装置中，提供采用PWM方法的电流放大器作为用于供给驱动驱动单元所需要的电流的电流源。

然而，PWM方法是使用基准波的调制方法，因此包括非线性成分。已知由于非线性成分的影响，在死区时间(dead time)中并且进一步在输出电流中涉及失真(distortion)。

在日本专利申请特开No.2013-31204中，公开了PWM放大器，其包括被配置为施加偏移(offset)电压以减小失真的死区时间补偿电路。

然而，当如日本专利申请特开No.2013-31204中所公开的PWM放大器中那样要补偿输出电流的失真时，需要额外的补偿电路，因此包括这样的PWM放大器的控制装置被不利地复杂化。

鉴于以上，本发明的目的是要提供可以利用其以简单的配置以高的精度控制驱动单元的驱动的控制装置、曝光装置以及物品的制造方法。

发明内容

根据本发明的一个实施例，提供了一种控制装置，包括：多个电流源，每个电流源被配置为基于PWM方法供给电流；第一检测单元，所述第一检测单元被配置为检测驱动单元的驱动状态；以及控制单元，所述控制单元被配置为当基于所述第一检测单元的检测结果而从所述多个电流源供给并且是驱动所述驱动单元所需要的多个电流中的至少一个电流的值是预定值时，改变所述多个电流的值。

从以下参考附图的示例性实施例的描述，本发明的进一步的特征将变得清楚。

附图说明

图1是用于图示根据本发明的第一实施例的控制装置中的一个的框图。

图2A是用于示意性地示出来自根据第一实施例的控制装置的输出电流的波形的图。

图2B是用于示意性地示出来自根据第一实施例的控制装置的输出电流的波形的图。

图3示出了用于示意性地示出来自根据第一实施例的控制装置的输出电流中失真如何出现的图。

图4A是用于图示根据第一实施例的控制装置如何控制微动工作台的图。

图4B是用于图示根据第一实施例的控制装置如何控制微动工作台的图。

图5示出了用于示意性地示出包括根据本发明的第二实施例的控制装置的曝光装置中的微动工作台的驱动曲线(profile)的图。

图6是用于图示根据第二实施例的控制装置中的一个的框图。

图7是用于示意性地图示安装在包括根据第一实施例的控制装置的曝光装置中的工作台装置的顶视图。

具体实施方式