[发明专利]导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法

权利要求书

1.一种导电膜结构，其特征在于，由导电功能层和光学功能层组成；所述导电功能层由光学基膜和导电基层组成；

所述光学基膜具有第一表面和相对的第二表面；所述导电基层设置在所述光学基膜的所述第一表面；所述光学功能层设置在所述第二表面；

所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种；或者

所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少两种的层叠。

2.根据权利要求1所述的导电膜结构，其特征在于，

所述光学功能层为AG层，所述AG层的雾度值在5％～60％，光泽度65～110。

3.根据权利要求2所述的导电膜结构，其特征在于，

所述AG层的铅笔硬度为3H以上；优选地，所述AG层的铅笔硬度的测试标准为ASTMD3363。

4.根据权利要求1所述的导电膜结构，其特征在于，

所述光学功能层为AR层，所述AR层的反射率在0.1％～1.5％。

5.根据权利要求1-4任一项所述的导电膜结构，其特征在于，

所述导电基层包括导电层；

可选地，所述导电层为纳米银线导电层，所述纳米银线导电层的表面阻抗小于等于100Ohm。

6.根据权利要求5所述的导电膜结构，其特征在于，

所述导电基层还包括硬化层和防护层；

所述硬化层和所述防护层分别设置在所述导电层的两个表面；所述硬化层设置在所述光学基膜上。

7.根据权利要求1所述的导电膜结构，其特征在于，

所述光学基膜的材料为PET、TAC或者SRF；

所述光学基膜的厚度为50～250μm；

可选地，所述光学基膜的铅笔硬度为HB；优选地，所述光学基膜的铅笔硬度的测试标准为ASTM D3363。

8.一种触控显示结构，其特征在于，由权利要求1-7任一项所述的导电膜结构以及显示屏组成；所述导电膜结构设置在所述显示屏上。

9.权利要求1-7任一项所述的导电膜结构的制备方法，其特征在于，包括：

在光学基膜的第一表面设置导电基层；

在光学基膜的第二表面设置光学功能层；所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种；或者

所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少两种的层叠。

10.一种触控显示结构的制备方法，其特征在于，包括：

采用权利要求9所述的导电膜结构的制备方法制得导电膜结构；

将所述导电膜结构连接于显示屏。