[发明专利]掩膜版及其制备方法

说明书

本申请涉及一种掩膜版及其制备方法。掩膜版包括框架、掩膜本体和调节装置。掩膜本体设置于框架。调节装置设置于框架与掩膜本体之间，用于调节框架与掩膜本体之间的位置变化。当掩膜版完成掩膜本体的张网之后，一旦发现掩膜本体出现移位或者褶皱的情况，可以通过调节装置调整掩膜本体与框架之间的位置发生变化，使得掩膜开口能够与像素单元对位设置，避免掩膜版的重新张网。通过调节装置调整掩膜本体与框架之间的位置发生变化，使得掩膜开口能够与像素单元对位设置，也可以提高显示屏的显示良率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜版及其制备方法。

背景技术

显示屏已经被广泛应用于各种便携式电子器件，比如移动通信设备、平板电脑、显示器、电子书、导航设备或者车载设备等众多领域。其中，有机发光二极管(organic lightemitting diode，简称OLED)因其具有低功耗、高色彩饱和度、广视角、薄厚度以及能实现柔性化设计等优异性逐渐被应用到显示屏。

目前显示屏的制作过程中，往往会使用精细金属掩膜版(fine metal mask，简称FMM)。在形成所述精细掩膜版时需要张网，具体是将一张张模板(mask)先定位而后固定在框架上。在完成所有的张网步骤后，开始蒸镀。最终在基板上形成对应的蒸镀膜层。

然而，在张网过程中掩膜层容易出现移位或者褶皱的情况。

发明内容

基于此，有必要针对在张网过程中掩膜层容易出现移位或者褶皱的问题，提供一种掩膜版及其制备方法。

一种掩膜版，包括：

框架；

掩膜本体，设置于所述框架；

调节装置，设置于所述框架与所述掩膜本体之间，用于调节所述框架与所述掩膜本体之间的位置变化。

在一个实施例中，所述调节装置包括：

至少一个调节结构，沿第二方向延伸设置，用于调节所述掩膜本体沿所述第二方向的位置。

在一个实施例中，所述调节结构包括：

调节杆，沿所述第二方向设置于所述框架与所述掩膜本体之间，所述调节杆沿所述第二方向移动，调节所述掩膜本体沿所述第二方向的位置。

在一个实施例中，所述调节杆包括依次连接的第一连接部和调节部，所述第一连接部与所述掩膜本体固定连接；

所述调节结构还包括：

固定座，与所述框架固定连接；

所述调节杆沿所述第二方向贯穿所述固定座，以调节所述掩膜本体沿所述第二方向的位置。

在一个实施例中，所述固定座包括：沿第一方向相对设置的第一端部和第二端部；

所述第一端部伸入所述框架并与所述框架固定连接；

所述第二端部沿所述第一方向露出所述框架设置。

在一个实施例中，所述固定座还包括：

第一通孔，开设于所述第二端部；所述第一通孔的内侧壁具有第一螺纹，所述调节部具有第二螺纹，所述调节部与所述第二端部螺纹连接。

在一个实施例中，所述调节杆包括：沿所述第二方向依次设置的第一连接部、调节部和第二连接部；所述第一连接部与所述掩膜本体固定连接；

所述框架包括：相互垂直设置的连接框架和限位框架；

所述限位框架用于限制所述框架中的结构外露，所述第二连接部与限位框架连接。

在一个实施例中，所述限位框架包括：