[发明专利]掩膜版及其制备方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

框架（10）；

掩膜本体（20），设置于所述框架（10）；

调节装置（30），设置于所述框架（10）与所述掩膜本体（20）之间，用于调节所述框架（10）与所述掩膜本体（20）之间的位置变化所述调节装置（30）包括：

至少一个调节结构（310），沿第二方向延伸设置，用于调节所述掩膜本体（20）沿所述第二方向的位置；

调节杆（320），沿所述第二方向设置于所述框架（10）与所述掩膜本体（20）之间，所述调节杆（320）沿所述第二方向移动，调节所述掩膜本体（20）沿所述第二方向的位置，所述调节杆（320）包括依次连接的第一连接部（321）和调节部（322），所述第一连接部（321）与所述掩膜本体（20）固定连接。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述调节结构（310）还包括：

固定座（330），与所述框架（10）固定连接；

所述调节杆（320）沿所述第二方向贯穿所述固定座（330），以调节所述掩膜本体（20）沿所述第二方向的位置。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述固定座（330）包括：

沿第一方向相对设置的第一端部（331）和第二端部（332）；

所述第一端部（331）伸入所述框架（10）并与所述框架（10）固定连接；

所述第二端部（332）沿所述第一方向露出所述框架（10）设置。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述固定座（330）还包括：

第一通孔（333），开设于所述第二端部（332）；所述第一通孔（333）的内侧壁具有第一螺纹，所述调节部（322）具有第二螺纹，所述调节部（322）与所述第二端部（332）螺纹连接。

5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述调节杆（320）包括：沿所述第二方向依次设置的第一连接部（321）、调节部（322）和第二连接部（323）；所述第一连接部（321）与所述掩膜本体（20）固定连接；

所述框架（10）包括：相互垂直设置的连接框架（110）和限位框架（120）；

所述限位框架（120）用于限制所述框架（10）中的结构外露，所述第二连接部（323）与限位框架（120）连接。

6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述限位框架（120）包括：

第二开孔（130），沿所述第二方向开设于所述限位框架（120）的内侧壁；

所述第二开孔（130）的内侧壁具有第一螺纹，所述第二连接部（323）具有第二螺纹，所述限位框架（120）与所述第二连接部（323）螺纹连接。

7.根据权利要求2-6中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述调节杆（320）沿所述第二方向的调节范围为0微米至50微米。

8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述调节杆（320）沿所述第二方向的调节范围为1微米至10微米。

9.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：

提供框架（10）；

提供调节装置（30），将所述调节装置（30）设置于所述框架（10）；

提供掩膜本体（20），将所述掩膜本体（20）张网至所述框架（10），并使得所述调节装置（30）与所述掩膜本体（20）固定连接，所述调节装置（30）包括：

至少一个调节结构（310），沿第二方向延伸设置，用于调节所述掩膜本体（20）沿所述第二方向的位置；

调节杆（320），沿所述第二方向设置于所述框架（10）与所述掩膜本体（20）之间，所述调节杆（320）沿所述第二方向移动，调节所述掩膜本体（20）沿所述第二方向的位置，所述调节杆（320）包括依次连接的第一连接部（321）和调节部（322），所述第一连接部（321）与所述掩膜本体（20）固定连接。