[发明专利]适用于光谱法测量呼气痕量成份的方法和系统

权利要求书

1.一种适用于光谱法测量呼气痕量成份的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

按照设置的抽真空处理方式对测量气室进行抽真空处理，使测量气室内的压力达到设置的进样前的压力阈值，其中：所述进样前的压力阈值小于大气压力，所述抽真空处理方式包括对所述测量气室直接抽真空处理和对所述测量气室进行一次或多次清洗后再抽真空处理；

按照设置的进样次数进行一次进样或者多次进样，其中：每一次进样均是依靠抽真空形成的测量气室的内外压力差，使连接在测量气室的进气口端的待测样本自动进入测试气室。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述的对所述测量气室直接抽真空处理，包括：执行一次抽真空排气步骤；

所述的对所述测量气室进行一次或多次清洗后再抽真空处理，包括：反复地执行一次所述抽真空排气步骤后再执行一次清洗步骤，直至所述清洗步骤的执行次数达到设置的清洗次数；再执行一次所述抽真空排气步骤；

其中，所述抽真空排气步骤包括：启动与所述测量气室具有气路连通的气压控制单元，关闭进气电磁阀，打开出气电磁阀，当所述测量气室的压力达到清洗前的压力阈值时关闭所述出气电磁阀，其中，所述清洗前的压力阈值小于或等于大气压力；

其中，所述清洗步骤包括：打开所述进气电磁阀，使连接在测量气室的进气口端的清洗气自动进入所述测量气室，当所述测量气室的压力达到清洗后的压力阈值时，关闭所述进气电磁阀。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述的一次进样，包括：执行一次进气步骤；

所述的多次进样，包括：执行一次所述进气步骤；反复地执行一次样本排气步骤后再执行一次所述进气步骤，直至所述进气步骤达到设置的进气次数；

其中，所述进气步骤包括：打开所述进气电磁阀，使待测样本自动进入所述测量气室，当所述测量气室的压力达到进样后的压力阈值时，关闭所述进气电磁阀；

其中，所述样本排气步骤包括：启动与所述测量气室具有气路连通的气压控制单元，关闭进气电磁阀，打开出气电磁阀，当所述测量气室的压力达到进样前的压力阈值时关闭所述出气电磁阀。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述一次进样或者多次进样执行完成之后，执行如下的测量气室降压处理步骤：打开出气电磁阀，气压控制单元运行，当压力传感器感应到测量气室内的压力达到测试压力阈值时，主控单元控制出气电磁阀关闭和气压控制单元停止运行。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

进样前的压力阈值与清洗前的压力阈值，可以是相同的或不同的；

进样后的压力阈值与清洗后的压力阈值，可以是相同的或不同的；

不同次样本排气步骤结束时所对应的进样前的压力阈值，可以是相同或不同。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述待测样本包括呼气样本和环境本底气样本，所述清洗气为经过处理后的空气或待测样本气。

7.一种适用于光谱法测量呼气痕量成份的系统，其特征在于，可实现如权利要求1-6任一项所述方法，所述系统包括：测量气室、主控单元、含有进气电磁阀的与测量气室连通的进气口、含有出气电磁阀的与测量气室连通的出气口、与测量气室具有气路连通的气压控制单元、与测量气室具有光路连通的光源、与测量气室具有光路连通且与主控单元具有电性连接的光电探测器和与测量气室具有气路连通的压力传感器。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述主控单元用于设置抽真空处理方式、设置进样次数、设置清洗前的压力阈值、设置清洗后的压力阈值、设置进样前的压力阈值、设置进样后的压力阈值、控制电磁阀的开、关和测量信号的分析处理。

9.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述光源包括各种激光光源和普通非激光光源。

10.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述气压控制单元包括气泵或气缸或其它能对测量气室进行增压或减压的压力控制处理设备或器件。