[发明专利]一种三氧化钨纳米片的电化学制备方法有效
| 申请号： | 202010040044.2 | 申请日： | 2020-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN111118574B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 李国华;陈晓丹;吴世照 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C25D11/26 | 分类号： | C25D11/26;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 冷红梅 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化钨 纳米 电化学 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种三氧化钨纳米片的电化学制备方法，所述方法包括：以金属钨片为阳极，以铂片或钛片为阴极，在电解液中，在温度15～100℃、电压15～50V条件下，进行恒电位电化学阳极氧化反应，直至金属钨片完全溶解，并氧化为电解液中可见的黄色粉末，反应结束后过滤收集固体粉末，经去离子水洗涤后干燥，得到所述三氧化钨纳米片；
所述电解液由无机盐、有机溶剂、去离子水组成；其中，所述无机盐质量分数为0.25％～1.5％，所述去离子水占去离子水与有机溶剂体积之和的百分比为10％～30％；所述无机盐为氟硼酸钠；所述有机溶剂为乙二醇或丙三醇。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述无机盐质量分数为0.5％～1.25％。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述去离子水占去离子水与有机溶剂体积之和的百分比为10％～20％。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述电化学阳极氧化反应在温度20～50℃、电压20～40V条件下进行。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述金属钨片在使用前经过预处理，所述预处理方法为：将金属钨片依次用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗除去表面附着物，再用去离子水或无水乙醇冲洗干净，烘干后即完成预处理。
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