[发明专利]一种晶圆湿处理设备

权利要求书

1.一种晶圆湿处理设备，其结构包括防护罩结构(1)、控制主机(2)、底脚(3)、控制面板(4)、固定结构(5)、电机(6)，所述防护罩结构(1)固定于控制主机(2)上方，所述控制主机(2)上设有控制面板(4)，所述控制主机(2)下方设有底脚(3)，所述控制主机(2)内部设有电机(6)，所述固定结构(5)与电机(6)机械连接，其特征在于：

所述固定结构(5)包括夹紧爪结构(51)、放置基座结构(52)、旋转轴杆(53)，所述夹紧爪结构(51)安装于放置基座结构(52)上且机械连接，所述放置基座结构(52)下方固定设有旋转轴杆(53)。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述夹紧爪结构(51)包括夹紧器(C1)、上顶板(C2)、防护板(C3)、嵌入支板(C4)，所述夹紧器(C1)贯穿安装于上顶板(C2)上，所述上顶板(C2)与防护板(C3)为一体化结构。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述嵌入支板(C4)前后两侧设有摩擦板。

4.根据权利要求2所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述夹紧器(C1)包括上拉板(C11)、拉杆(C12)、缓冲弹簧(C13)、压板(C14)，所述上拉板(C11)与拉杆(C12)为一体浇筑成型，所述拉杆(C12)贯穿于缓冲弹簧(C13)中，所述拉杆(C12)下端焊接于压板(C14)上。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述放置基座结构(52)包括嵌入孔(T1)、缓冲球(T2)、放置板架(T3)、连接孔(T4)、中基板(T5)，所述嵌入孔(T1)与放置板架(T3)为一体化结构，所述缓冲球(T2)粘合于放置板架(T3)上，所述放置板架(T3)与连接孔(T4)为一体化结构，所述放置板架(T3)共设有四根，且均匀分布于中基板(T5)四周。

6.根据权利要求1所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述防护罩结构(1)包括机壳(11)、通孔(12)、导液结构(13)、小支块(14)、导流架(15)、上封盖(16)，所述上封盖(16)放置于机壳(11)上，所述通孔(12)与导流架(15)为一体化结构，所述机壳(11)下端与导液结构(13)上端相焊接。

7.根据权利要求6所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述导流架(15)由导流坡与内导流座组成，且内导流座设于导流坡内侧。

8.根据权利要求6所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述导液结构(13)包括出水孔(S1)、导水槽(S2)、连接管(S3)，所述出水孔(S1)焊接于导水槽(S2)左侧且相互连通，所述连接管(S3)共设有四根，且均匀焊接于导水槽(S2)上方。