[发明专利]工艺参数检测方法、装置、电子设备及可读存储介质

说明书

本申请实施例提供一种工艺参数检测方法、装置、电子设备及可读存储介质，涉及云计算技术领域。该方法包括：获取待检测样本，所述待检测样本中包括目标工艺参数的多个参数值；根据所述多个参数值，确定所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线；根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常；输出检测结果。该方法在检测工艺参数时不会丢失过多的信息，因此，使得检测结果的准确性得到极大的提升。

技术领域

本申请实施例涉及云计算技术领域，尤其涉及一种工艺参数检测方法、装置、电子设备及可读存储介质。

背景技术

在工业制造生产过程中，设备的温度、压力、功率等工艺参数直接决定着最终生产的产品是否合格。如果能在生产过程中及时发现这些工艺参数是否存在异常，并在工艺参数存在异常时及时预警并采取措施，就可以极大的降低产品的不良率。因此，如何检测工艺参数是否异常，是值得研究的问题。

现有技术中，主要基于一维的工艺参数来检测工艺参数是否异常。具体的，在一个生产过程中对每个样本的每种工艺参数采样出一个参数值进行建模，通过传统的一维异常检测算法判断该工艺参数是否异常。例如，将当前检测样本所采样的工艺参数值同历史样本中该工艺参数的平均值进行比较，根据比较的差值来判断工艺参数是否存在异常。

但是，现有技术的方法损失了大量的信息，可能导致检测结果不够准确。

发明内容

本申请实施例提供一种工艺参数检测方法、装置、电子设备及可读存储介质，用于解决现有技术中工艺参数检测会损失大量的信息而导致的检测结果不够准确的问题。

第一方面，本申请实施提供一种工艺参数检测方法，包括：

获取待检测样本，所述待检测样本中包括目标工艺参数的多个参数值；

根据所述多个参数值，确定所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线；

根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常，所述历史分布曲线基于历史的合格样本得到；输出检测结果，所述检测结果用于指示所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常。

作为一种可选的实现方式，所述根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常之前，还包括：

获取多个历史合格样本，每个所述历史合格样本中包括所述目标工艺参数的多个参数值；

根据每个所述历史合格样本中的所述目标工艺参数的多个参数值，分别确定每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线；

根据每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线，确定所述目标工艺参数对应的历史分布曲线。

作为一种可选的实现方式，所述根据每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线，确定所述目标工艺参数对应历史分布曲线，包括：

确定各所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线的中心分布曲线，将所述中心分布曲线作为所述目标工艺参数对应的历史分布曲线。

作为一种可选的实现方式，所述根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常，包括：

根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线与所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的距离与目标距离的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常。