[发明专利]工艺参数检测方法、装置、电子设备及可读存储介质

权利要求书

1.一种工艺参数检测方法，其特征在于，包括：

获取待检测样本，所述待检测样本中包括目标工艺参数的多个参数值；

根据所述多个参数值，确定所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线；

根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常，所述历史分布曲线基于历史的合格样本得到；

输出检测结果，所述检测结果用于指示所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常之前，还包括：

获取多个历史合格样本，每个所述历史合格样本中包括所述目标工艺参数的多个参数值；

根据每个所述历史合格样本中的所述目标工艺参数的多个参数值，分别确定每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线；

根据每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线，确定所述目标工艺参数对应的历史分布曲线。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线，确定所述目标工艺参数对应历史分布曲线，包括：

确定各所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线的中心分布曲线，将所述中心分布曲线作为所述目标工艺参数对应的历史分布曲线。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常，包括：

根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线与所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的距离与目标距离的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常之前，还包括：

根据每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线与所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的距离，确定所述目标距离。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据每个所述历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线与所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的距离，确定所述目标距离，包括：

分别确定每个历史合格样本中所述目标工艺参数的分布曲线与所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的距离，得到多个待选距离；

将所述多个待选距离中的最大距离作为所述目标距离。

7.根据权利要求1-6任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述多个参数值，确定所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线，包括：

根据所述多个参数值，确定所述待检测样本中所述目标工艺参数的经验分布函数；

对所述经验分布函数进行光滑处理，得到所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线。

8.一种工艺参数检测装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取待检测样本，所述待检测样本中包括目标工艺参数的多个参数值；

确定模块，用于根据所述多个参数值，确定所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线；以及，

根据所述待检测样本中所述目标工艺参数的分布曲线以及所述目标工艺参数对应的历史分布曲线的差异，确定所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常，所述历史分布曲线基于历史的合格样本得到；

输出模块，用于输出检测结果，所述检测结果用于指示所述待检测样本中的所述目标工艺参数是否存在异常。