[发明专利]一种化学机械平坦化设备

权利要求书

1.一种化学机械平坦化设备，其结构包括旋转电机(1)、抛光盘(2)、转杆(3)、承载器(4)、底支座(5)、支撑柱(6)、承载器调节结构(7)，所述旋转电机(1)固定安装于承载器调节结构(7)上方通过机械连接，所述抛光盘(2)下端与转杆(3)上端相焊接，所述旋转电机(1)下端与承载器(4)上端固定连接，所述底支座(5)上端与支撑柱(6)下端相焊接，所述承载器调节结构(7)套合在支撑柱(6)上且活动连接，所述承载器(4)位于抛光盘(2)正上方，其特征在于：

所述承载器调节结构(7)包括滑轨结构(71)、滑行器(72)、连接支架板(73)、支板旋转结构(74)，所述滑行器(72)安装于滑轨结构(71)上且活动连接，所述滑轨结构(71)焊接于连接支架板(73)上方，所述支板旋转结构(74)固定安装于连接支架板(73)右端。

2.根据权利要求1所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述滑轨结构(71)包括限位支块(711)、嵌入槽孔(712)、滑板(713)，所述限位支块(711)下端焊接于滑板(713)左上端相焊接，所述嵌入槽孔(712)与滑板(713)为一体化结构。

3.根据权利要求1所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述滑行器(72)包括滑条(T1)、滑槽架(T2)、电机连接支架块结构(T3)，所述滑条(T1)与滑槽架(T2)为一体化结构，所述滑槽架(T2)共设有两个，且上方焊接有电机连接支架块结构(T3)。

4.根据权利要求3所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述电机连接支架块结构(T3)包括防护壳(TT1)、拉柄(TT2)、保护壳(TT3)、缓冲弹簧(TT4)、支撑滑槽架(TT5)、嵌入杆(TT6)，所述防护壳(TT1)内侧设有保护壳(TT3)且固定连接，所述支撑滑槽架(TT5)放置于保护壳(TT3)内部，且支撑滑槽架(TT5)侧端面贴合于保护壳(TT3)内壁，同时支撑滑槽架(TT5)中心与嵌入杆(TT6)相焊接，所述缓冲弹簧(TT4)安装于支撑滑槽架(TT5)内部，所述缓冲弹簧(TT4)环绕于嵌入杆(TT6)外侧，所述拉柄(TT2)下端与嵌入杆(TT6)上端相焊接。

5.根据权利要求2所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述滑板(713)两侧设有凹槽条，且呈光滑无颗粒状态，同时凹槽条与滑条(T1)相互装配。

6.根据权利要求1所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述支板旋转结构(74)包括滚动小球(741)、通孔(742)、固定旋转底支板(743)、保持架(744)、滚动槽(745)、嵌入限位机构(746)，所述滚动小球(741)安装于滚动槽(745)内，且通过保持架(744)对其固定，所述固定旋转底支板(743)与滚动槽(745)为一体化结构，所述嵌入限位机构(746)嵌入于通孔(742)上，所述通孔(742)固定旋转底支板(743)上。

7.根据权利要求6所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述嵌入限位机构(746)包括导支杆(D1)、支板(D2)，所述导支杆(D1)共设有六根，且均匀分布在支板(D2)上通过电焊相连接。

8.根据权利要求1所述的一种化学机械平坦化设备，其特征在于：所述支撑柱(6)包括导向孔(61)、上顶板(62)、连接支座(63)、定位轴柱(64)，所述导向孔(61)与上顶板(62)为一体化结构，所述上顶板(62)通过定位轴柱(64)与连接支座(63)固定连接。