[发明专利]电气小车系统

说明书

本发明提供一种电气小车系统，用于半导体设备，包括整机支架、电气车体，该电气小车系统还包括：导向轴；第一连接结构，分别与导向轴和整机支架连接；第二连接结构，分别与导向轴和电气车体连接；并且，第一连接结构和第二连接结构被设置为使电气车体能够围绕导向轴转动，整机支架相对于导向轴固定不动。本发明提供的电气小车系统，能够减少电气车体转动不畅的情况发生，并能够降低电气小车系统的安装及加工难度。

技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域，具体地，涉及一种电气小车系统。

背景技术

目前，在半导体设备中，感应耦合等离子体(InductivelyCoupled Plasma，ICP)刻蚀机由反应室系统、上电极系统、电气小车系统及整机支架等主要功能模块组成。其中，反应室系统为半导体工艺提供真空环境及下射频；上电极系统提供工艺气体及上射频；电气小车用于旋转或腾挪位置，带动电气系统与其余模块分离，为反应室系统摆阀、分子泵等的维护提供一个便利的窗口。

如图1所示，在现有技术中，电气小车系统由电气小车11、两组转轴12、两组转轴支架13、桁架14和整机支架15组成，其中，电气小车11用于承载电气系统，整机支架15用于承载反应室系统，两组转轴12和两组转轴支架13沿竖直方向间隔设置，并一一对应连接，且两组转轴12能够相对于两组转轴支架13转动，两组转轴12与电气小车11连接，两组转轴支架13通过桁架14与整机支架15连接，以通过两组转轴12相对于两组转轴支架13转动，使电气小车11能够相对于整机支架15转动，从而通过电气小车11带动电气系统相对于反应室系统旋转或腾挪位置，以便于在半导体工艺过程中，使电气系统与反应室系统连接，或者在需要对反应室系统或电气系统维护时，使电气系统与反应室系统分开，以提供维护空间。

但是，在现有技术中，由于电气小车11是通过两组转轴12和两组转轴支架13旋转，而两组转轴12和两组转轴支架13会使电气小车11具有两个旋转自由度，由于两组转轴12和两组转轴支架13很难保证同轴设置，就使这两个旋转自由度也很难保证同心，就会导致电气小车11在转动的过程中，发生转动不畅的情况，并且对于两组转轴12和两组转轴支架13的加工精度也会有较高要求，使得电气小车系统的安装及加工难度较高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种电气小车系统，其能够减少电气车体转动不畅的情况发生，并能够降低电气小车系统的安装及加工难度。

为实现本发明的目的而提供一种电气小车系统，用于半导体设备，包括整机支架、电气车体，所述电气小车系统还包括：

导向轴；

第一连接结构，分别与所述导向轴和所述整机支架连接；

第二连接结构，分别与所述导向轴和所述电气车体连接；

并且，所述第一连接结构和所述第二连接结构被设置为使所述电气车体能够围绕所述导向轴转动，所述整机支架相对于所述导向轴固定不动。

优选的，所述第一连接结构包括设置在所述整机支架的底板上的第一定位孔，所述导向轴的一端插设在所述第一定位孔中；并且，所述导向轴的位于所述第一定位孔中的第一部分的外周壁与所述第一定位孔的孔壁相配合，以限定所述导向轴的位置。

优选的，所述第一部分和所述第一定位孔在所述导向轴的径向截面上的正投影形状相同，且所述第一部分被设置为能够限制所述导向轴在其周向上的旋转自由度。

优选的，所述第一连接结构还包括连接件，所述连接件与所述整机支架固定连接，并在所述连接件中设置有第二定位孔，所述导向轴的远离所述第一部分的一端插设在所述第二定位孔中，并且所述导向轴的位于所述第二定位孔中的第二部分的外周壁与所述第二定位孔的孔壁之间具有间隙。

优选的，所述第一连接结构还包括位置调节组件，所述位置调节组件用于调节所述连接件与所述整机支架在所述导向轴径向上的相对位置，所述位置调节组件包括：