[发明专利]一种显示基板、其制作方法及显示面板、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，依次位于所述衬底基板上的像素界定层、隔离层和被隔断层；其中，

所述像素界定层，包括：多个像素开口；

所述隔离层与各所述像素开口互不重叠，且所述隔离层包括第一隔离部，以及位于所述第一隔离部背离所述衬底基板一侧且覆盖所述第一隔离部的第二隔离部；

在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第二隔离部的截面中至少一侧边的坡度角为钝角，所述第一隔离部在所述钝角处与所述第二隔离部之间具有间隙，且所述第一隔离部的厚度大于所述被隔断层的厚度；

所述被隔断层，包括：覆盖所述隔离层的第一被隔离部，分居所述第一隔离部两侧的第二被隔离部和第三被隔离部。

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述被隔断层，包括：位于所述衬底基板显示区域且复用为自电容电极的阴极。

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述被隔断层，还包括：位于所述阴极与所述隔离层之间的白光发光层。

4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述被隔断层，包括：位于所述衬底基板边框区域的第一无机薄膜封装层和第二无机薄膜封装层。

5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在所述显示区域内，还包括：位于所述阴极之上的第一无机薄膜封装层、有机薄膜封装层和第二无机薄膜封装层；

在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一隔离部的厚度小于所述第一无机薄膜封装层的厚度。

6.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一分部的截面为倒梯形结构，所述第二隔离部的截面为正梯形结构或倒梯形结构。

7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离部为金属层或金属氧化物层，所述第二隔离部为隔垫物层。

8.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一隔离部和所述第二隔离部的截面均为平行四边形结构。

9.如权利要求6或8所述的显示基板，其特征在于，所述第一隔离部与所述第二隔离部为一体结构的隔垫物层。

10.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上依次形成包括多个像素开口的像素界定层、隔离层和被隔断层；其中，

所述隔离层与各所述像素开口互不重叠，且所述隔离层包括第一隔离部，以及位于所述第一隔离部背离所述衬底基板一侧且覆盖所述第一隔离部的第二隔离部；

在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第二隔离部的截面中至少一侧边的坡度角为钝角，所述第一隔离部在所述钝角处与所述第二隔离部之间具有间隙，且所述第一隔离部的厚度大于所述被隔断层的厚度；

所述被隔断层，包括：覆盖所述隔离层的第一被隔离部，分居所述第一隔离部两侧的第二被隔离部和第三被隔离部。

11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，形成隔离层，具体包括：

在所述像素界定层上形成支撑层；

在所述支撑层上形成第二隔离部，所述第二隔离部的截面在垂直于所述衬底基板的方向上为倒梯形结构；

采用湿法刻蚀工艺，对所述支撑层进行刻蚀，形成被所述第二隔离部覆盖的第一隔离部；在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一隔离部的截面为正梯形结构，且所述第一隔离部的两侧与所述第二隔离部之间具有间隙；

所述第一隔离部与所述第二隔离部构成所述隔离层。