[发明专利]加工装置

说明书

提供加工装置，将被加工物的清洗时所用的二流体快速地排出到加工室的外部。在从与保持面(50a)垂直的方向倾斜的喷嘴(72)朝向卡盘工作台(5)所保持的被加工物(W)的上表面(Wa)喷射二流体(M)而对被加工物(W)的上表面(Wa)进行清洗时，利用配设于卡盘工作台(5)与分隔板(161)之间的气液分离单元(70)的顶板(700)及侧板(701)将在被加工物(W)的上表面(Wa)上反射而朝向分隔板(161)的方向的二流体(M)接住并从配设于加工室(16)的底部的排出口(162)排出，从而防止二流体(M)成为喷雾而扩散到加工室(16)的内部的空间，削减二流体(M)的排出所花费的时间。

技术领域

本发明涉及对被加工物进行加工的加工装置。

背景技术

如专利文献1所示，对被加工物进行加工的加工装置具有清洗单元，该清洗单元用于在被加工物的加工后朝向被加工物喷射混合有水和空气的二流体而对被加工物进行清洗。

在使用了上述清洗单元的被加工物的清洗中，从借助移动单元从待机位置移动至清洗位置的二流体喷嘴朝向被加工物喷送二流体。从二流体喷嘴喷送的二流体的雾向加工室的内部的空间飞散，随着时间经过而从配设于加工室的排出口等排出到加工室的外部。如专利文献2所示，还存在一种加工装置，其从配设于加工室的供气风扇对加工室的内部进行送风，从而将从二流体喷嘴喷射而飞散到加工室的内部的雾强制性地排出到加工室的外部。

专利文献1：日本特开2011-200785号公报

专利文献2：日本特开2011-243833号公报

在利用二流体对被加工物进行清洗之后，定位于作为卡盘工作台的上方的清洗位置的清洗单元暂时从卡盘工作台的上方退避而移动至待机位置，但在使清洗单元移动至待机位置之前，需要使从二流体喷嘴喷出的二流体的喷雾从排出口等排出而从加工室的内部去除。其他驱动机构则待机直至清洗单元移动至待机位置为止，因此清洗单元向待机位置的移动成为障碍，例如会妨碍向作为下一工序的将清洗后的被加工物从卡盘工作台取下的作业等的进展。因此，存在如下的问题：清洗单元向待机位置的移动导致被加工物的加工作业整体所花费的时间延长，效率较低。

另外，关于通过使用上述那样的排气风扇的送风将从二流体喷嘴喷射而飞散到加工室的内部的雾强制性地排气的清洗单元，需要在加工装置中配设排气风扇及将排气风扇和清洗单元连结的管道等，磨削装置内部的空间被排气风扇及管道等占据，并且磨削装置整体的大小会增大。即，本发明要解决的课题是不借助大规模的排气风扇及管道等而快速地将在被加工物的清洗时从二流体喷嘴喷射而飞散到加工室内部的二流体排出到加工室的外部。

发明内容

本发明提供对被加工物进行加工的加工装置。

本发明是加工装置，其具有：卡盘工作台，其具有对被加工物进行保持的保持面；加工单元，其利用加工器具对该卡盘工作台所保持的被加工物的上表面进行加工；清洗单元，其具有朝向该被加工物的上表面喷射将空气和水混合而得的二流体的喷嘴，通过该喷嘴所喷射的二流体对该被加工物的上表面进行清洗；以及水箱，其围绕该卡盘工作台，将水接住并从排水口排出，其中，该清洗单元具有：气液分离单元，其与该卡盘工作台相邻，将该喷嘴所喷射的该二流体接住并进行气液分离；以及移动单元，其使该喷嘴水平移动至该保持面的上方的区域的内外，该喷嘴的喷射方向从与该保持面垂直的方向倾斜，该二流体从该保持面的中心侧朝向该气液分离单元，该气液分离单元具有：顶板；从该顶板垂下的多个侧板；以及供该二流体进入的入口，从该入口进入的该二流体与该侧板和该顶板接触而气液分离成水和空气，使该空气向大气开放，使该水从该排水口排出。

优选上述气液分离单元具有从该入口的上边向下方向延伸的檐，从该入口进入的该二流体依次与该侧板、该顶板、该檐接触，形成该二流体的旋涡而进行气液分离。

优选上述气液分离单元在远离该入口的位置具有容积大的区域，从该入口进入的该二流体在该大的区域中使流速降低而进行气液分离。