[发明专利]光学制品的翘曲预测方法和程序有效
| 申请号: | 201980089398.1 | 申请日: | 2019-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN113302522B | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
| 发明(设计)人: | 杉浦宗男;田村耕一;吉田拓郎 | 申请(专利权)人: | 东海光学株式会社 |
| 主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B1/115;G02B1/14 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 褚瑶杨;庞东成 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 制品 预测 方法 程序 | ||
本发明提供一种能够高精度地进行翘曲的计算、有助于降低光学制品的制作工时和成本的光学制品的翘曲预测方法和程序。本发明的光学制品的翘曲预测方法中,通过用计算机计算下述式(A1)、(B1)等(步骤S11~S13),预测附有膜的基板的翘曲δ;式(A1)、(B1)中,设定a为第1拟合参数、Td为第2拟合参数,这些参数利用2个以上的样品在每个成膜条件下进行了最优化。此处,σint是真应力、Ef是多层膜的杨氏模量、νf是多层膜的泊松比、αf是多层膜的线膨胀系数、αs是基板的线膨胀系数、T是室温、d是膜厚、b是基板的板厚、l是基板的半径、Es是基板的杨氏模量、νs是基板的泊松比。
技术领域
本发明涉及一种预测在基板上形成有单层膜或多层膜的光学制品的翘曲的方法和程序。
背景技术
对照相机镜头用滤镜等光学制品中的基板,形成有硬涂膜或者防反射膜等单层膜或者多层膜的情况下,由于该单层膜或者多层膜的应力,有基板(光学制品)翘曲的情况。
这样的翘曲有可能对光学制品的性能产生影响,典型情况下希望是没有翘曲(翘曲=0)的状态。
以往,在成为没有翘曲的光学制品的单层膜或者多层膜的设计中,首先临时设计满足光学功能的单层膜或者多层膜,将该临时设计的单层膜或者多层膜试验性地对基板进行成膜而形成临时光学制品,实测该临时光学制品的翘曲,有翘曲(翘曲的绝对值大于规定值)的情况下,以反馈翘曲后的状态再次进行另外的临时设计,以后反复进行临时光学制品的形成和翘曲的实测,直至翘曲消失并确定设计。
因为这样的设计耗费工时和成本,所以有尝试计算出设计的单层膜或者多层膜的翘曲。
下述非专利文献1、2、3中,公开了如下技术:从关于由单层膜的应力所致的翘曲δ的Stoney式(下述式(1)),计算光学制品的翘曲δ。
式(1)中,d是膜厚[m(米)]、σ是膜的应力[Pa(帕斯卡)]、b是圆盘状的基板的板厚[m]、l是基板的半径[m]、Es是基板的杨氏模量[Pa]、νs是基板的泊松比[无单位]。
[数1]
另外,关于高折射材料所形成的高折射率层和低折射材料所形成的低折射率层交替层积的多层膜,如下述非专利文献4所示,根据扩展了Stoney式的下述式(2)~(6),尝试计算附有多层膜的基板的翘曲δ。
式(2)与式(1)相同。
式(3)~(6)中,dH是高折射率层的合计膜厚[m]、dL是低折射率层的合计膜厚[m]、σH是高折射率层的真应力[Pa]、σL是低折射率层的真应力[Pa]。
[数2]
d=dH+dL (3)
现有技术文献
非专利文献
非专利文献1:G.G.Stoney:Proc.R.Soc.London,Series A,82,172(1909)
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