[发明专利]光学制品的翘曲预测方法和程序

权利要求书

1.一种光学制品的翘曲预测方法，其特征在于，通过用计算机计算下述式(A1)～(I)，预测附有膜的基板的翘曲δ；所述式(A1)～(I)中，设定a为第1拟合参数、T_d为第2拟合参数，这些参数按照得到与2个以上的样品的翘曲的测定值拟合的翘曲的计算值的方式通过拟合在每个成膜条件下进行了最优化；

[数1]

d＝d_H+d_L (C)

此处，σ_int是真应力、E_f是多层膜的杨氏模量、E_H是高折射率层的杨氏模量、E_L是低折射率层的杨氏模量、ν_f是多层膜的泊松比、ν_H是高折射率层的泊松比、ν_L是低折射率层的泊松比、α_f是多层膜的线膨胀系数、α_H是高折射率层的线膨胀系数、α_L是低折射率层的线膨胀系数、α_s是基板的线膨胀系数、T是室温、d是膜厚、b是基板的板厚、l是基板的半径、E_s是基板的杨氏模量、ν_s是基板的泊松比、d_H是高折射率层的合计膜厚、d_L是低折射率层的合计膜厚、σ_H是高折射率层的真应力、σ_L是低折射率层的真应力。

2.一种光学制品的翘曲预测方法，其特征在于，通过用计算机计算下述式(A1)～(I)，预测附有膜的基板的翘曲δ；所述式(A1)～(I)中，设定a_H为第1-1拟合参数、a_L为第1-2拟合参数、T_d为第2拟合参数，这些参数按照得到与2个以上的样品的翘曲的测定值拟合的翘曲的计算值的方式通过拟合在每个成膜条件下进行了最优化；

[数2]

d＝d_H+d_L (C)

此处，σ_int是真应力、E_f是多层膜的杨氏模量、E_H是高折射率层的杨氏模量、E_L是低折射率层的杨氏模量、ν_f是多层膜的泊松比、ν_H是高折射率层的泊松比、ν_L是低折射率层的泊松比、α_f是多层膜的线膨胀系数、α_H是高折射率层的线膨胀系数、α_L是低折射率层的线膨胀系数、α_s是基板的线膨胀系数、T是室温、d是膜厚、b是基板的板厚、l是基板的半径、E_s是基板的杨氏模量、ν_s是基板的泊松比、d_H是高折射率层的合计膜厚、d_L是低折射率层的合计膜厚、σ_H是高折射率层的真应力、σ_L是低折射率层的真应力。

3.如权利要求1或权利要求2所述的光学制品的翘曲预测方法，其特征在于，所述式(A1)替换为设定δ_s为第3拟合参数的下述式(A2)，通过用计算机计算所述式(A2)～(I)，预测附有膜的基板的翘曲δ；所述式(A2)～(I)中，包括所述第3拟合参数在内按照得到与2个以上的样品的翘曲的测定值拟合的翘曲的计算值的方式通过拟合在每个成膜条件下进行了最优化，

[数3]

4.如权利要求1或权利要求2所述的光学制品的翘曲预测方法，其特征在于，

所述式(A1)替换为具有基板在成膜前的翘曲δ₀的下述式(A3)，通过用计算机计算所述式(A3)～(I)，预测附有膜的基板的翘曲δ；所述式(A3)～(I)利用2个以上的样品在每个成膜条件下进行了最优化，

[数4]