[发明专利]弹性引导装置、定位装置、叶片和光刻设备

说明书

本发明涉及用于沿支撑方向相对于基部支撑质量体的弹性引导装置，其中沿支撑方向的刚度相比于沿其它方向的刚度明显增加，例如沿竖直方向的刚度相比于沿水平方向的刚度明显增加。本发明还涉及包括至少一个弹性引导装置的定位装置，和包括这样的定位装置的光刻设备。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年01月11日提交的欧洲申请19151307.6和于2019年10月08日提交的欧洲申请19201930.5的优先权，这些专利申请的全部内容以引用方式而被合并入本文中。

技术领域

本发明涉及包括弹性引导装置、定位装置、和包括这样的定位装置的光刻设备。

背景技术

光刻设备是将期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)制造中。在那种情况下，图案形成装置(其可替代地被称作掩模或掩模版)可以用以产生待形成在IC的单层上的电路图案。可以将这种图案转印至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常经由成像至被设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次性将整个图案曝光至目标部分上来照射每个目标部分；和所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上经过辐射束扫描所述图案的同时、平行于或反向平行于这种扫描方向同步地扫描所述衬底，来照射每个目标部分。也可能通过将所述图案压印至衬底上来将所述图案从所述图案形成装置转印至衬底。

定位装置可以被用于定位处理工具(例如，光刻设备或电子束检查工具)内的物体(例如，衬底)。在实施例中，所述定位装置包括用于支撑所述物体的可移动平台。致动器可以被设置以用于沿水平移动方向相对于参照物移动所述平台和被支撑在所述平台上的物体。平衡质量体可以被布置在所述参照物与所述致动器之间。设置这样的平衡质量体以减少从所述致动器至所述参照物的反作用力的传递。所述平衡质量体可以相对于支撑装置被支撑在所述参照物上，所述支撑装置被布置在所述平衡质量体与所述参照物之间。

所述平衡质量体典型地沿与所述平台的移动方向相反的移动方向移动。这意味着当所述平台例如沿水平方向沿正方向移动时，所述平衡质量体将沿相同的水平方向的负方向移动。另外，所述平衡质量体典型地具有比所述平台的质量体明显更高的质量体，例如可以应用5:1的质量体比。作为质量体差异的结果，在所述平衡质量体和所述平台沿所述移动方向的位移之间将存在相反的比率，从而导致所述平衡质量体相较于所述平台的较小位移，而同时仍减小至所述参照物的反作用力的传递。例如，在平衡质量体与平台之间的5:1的质量体比将导致沿移动方向的1:5的位移比。

用以支撑所述平衡质量体的支撑装置可以包括被布置在所述参照物与所述平衡质量体之间的多个板簧。在所述平衡质量体的正常操作期间，所述板簧提供沿竖直方向的足够的刚度以沿竖直方向支撑所述平衡质量体，从而克服重力。所述板簧还被设计用于具有沿所述平台的水平移动方向的相对低的刚度，以减小由所述板簧的刚度所引起的沿所述平衡质量体的移动方向的所述板簧的扰动效应。

另外，由于在所述定位装置的正常操作期间发生的所述板簧的材料的应力和疲劳，所述板簧的可实现的行程可能被限制。虽然这个应力和疲劳可能由于所述平衡质量体的质量体的减小而被减小，但是所述平衡质量体的质量体的这种减小将导致为了跟随所述平台的移动而对所述平衡质量体所需的更大的行程。更大的行程本身可能导致更大的应力和潜在的疲劳。

发明内容

本发明的一目的是提供一种能够支撑增加的质量体和/或适应增加的行程的改善的弹性引导装置，例如板簧装置。

根据本发明的一方面，提供一种弹性引导装置，所述弹性引导装置用于相对于基部沿支撑方向支撑质量体，所述弹性引导装置包括：

在第一平面中延伸的第一叶片，和

在第二平面中延伸的第二叶片，