[发明专利]研磨剂的再生方法以及研磨剂回收处理系统有效

专利信息
申请号: 201980088075.0 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN113365781B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 沟口启介;薛婧;月形扶美子;前泽明弘 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: B24B57/00 分类号: B24B57/00;C09G1/02;C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 研磨剂 再生 方法 以及 回收 处理 系统
【说明书】:

本发明的课题是,提供一种研磨剂的再生方法以及研磨剂回收处理系统,其可以从化学强化玻璃的研磨中使用的加工后的研磨剂浆料中有效地除去含有Ksubgt;2/subgt;O的玻璃成分,并有效地分离被研磨物、提高研磨速度稳定性和防止研磨物划痕等导致的品质降低。本发明的研磨剂的再生方法是从研磨剂浆料中,除去被研磨物的构成成分,对研磨剂进行回收、再生的研磨剂的再生方法,其至少依次包括:研磨加工工序、研磨剂浆料供给工序、研磨剂浆料回收工序、沉降分离浓缩工序,其中,向所述研磨剂浆料供给工序中的Ksubgt;2/subgt;O浓度在0.05~1.0质量%的范围内的研磨剂浆料,在所述研磨剂浆料回收工序或所述沉降分离浓缩工序中,添加水稀释至5~50倍。

技术领域

本发明涉及研磨剂的再生方法以及研磨剂回收处理系统,更详细而言,涉及从用于化学强化玻璃的研磨、加工后的研磨剂浆料中有效地除去含有K2O的玻璃成分、被研磨物的有效地分离、提高研磨速度的稳定性和防止研磨物划痕等导致的品质降低研磨剂的再生方法以及研磨剂回收处理系统。

背景技术

目前,在制造光学玻璃或水晶发振子时,作为在收尾工序中进行精密研磨的研磨剂(也称为研磨材),以往一般使用,以金刚石、氮化硼、碳化硅、氧化铝、氧化铝-氧化锆、氧化锆、氧化铈等为代表的具有高硬度的微粒。

这些研磨剂,由于是硬度高的微粒,且是作为光学镜片、半导体硅基板以及液晶屏幕的玻璃板等的电子部件关联的光学研磨剂而大量使用的重要的资源,因此,是强烈需要再利用的资源的一种。另外,由于光学研磨用的研磨剂含有稀土类元素的微粒情况较多,对于资源的再利用化或无公害化的技术对应也正成为重要问题。

另外,这些研磨剂,通常,在研磨工序中大量使用时,其废液中会同时存在被研磨物的构成成分,例如,光学玻璃屑等,通常,由于难以有效地分离研磨剂和被研磨物,如同所述,现状是研磨剂废液在多数的情况下会在使用后被废弃,在环境负荷方面、资源的有效利用方面或废弃成本方面也存在问题。

另一方面,近年中,随着智能手机的急速的普及,智能手机用的显示器玻璃的生产量也在大幅增加。另外,近年来,智能手机大屏化的倾向很强,使用的显示器玻璃(玻璃盖)的面积也在变大。

然而,如果由于大屏化,智能手机自身也大型化时,存在会失去本来的携带性、操作性等部分的问题。另一方面,由于智能手机用的显示器玻璃容易因落下时的冲击而产生裂纹,多数的情况下,使用化学强化玻璃。

因此,近年,为了在保持智能手机自身的紧凑性的同时实现大屏化,对端面进行曲面加工以使得连屏幕的边界都能作为表示屏幕而使用的,被称为3D玻璃的玻璃正在被开发。由于该3D玻璃与以往相比,平均面积的研磨量增大,研磨使用的研磨剂的再生的需求正在不断增大。

然而,随着研磨量的增加,循环使用的研磨剂浆料中的玻璃成分量也有增加的倾向,如果研磨剂再生次数增加,回收研磨剂浆料的品质也会降低。

对于所述问题,从含有氧化铈的研磨剂在使用后研磨剂浆料中,将进行了研磨的研磨剂成分,使用镁盐等进行分离的,研磨剂成分的再生方法已经被公开了(例如,参照专利文献1)。

然而,在最近的研磨方法中,随着研磨量的增加,循环使用的研磨剂浆料中的,研磨所产生的玻璃研磨屑(以下,单称为研磨屑。)的量也有增加的倾向,在对于智能手机用的显示器玻璃研磨方法中,研磨剂再生次数增加时,会出现使用专利文献1公开的研磨剂成分的再生方法制备的回收研磨剂浆料中,无法有效地分离玻璃等的研磨屑和研磨剂的情况。

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