[发明专利]用于通过局部加热来控制蚀刻深度的方法

说明书

本公开内容的多个实施方式涉及通过提供在整个基板上的局部加热来控制蚀刻深度的方法。用于控制整个基板上的温度的方法可包括个别地控制设置在基板支承组件的介电主体中的多个加热小单元。多个加热小单元在基板的第一表面上提供温度分布，基板设置在介电主体的支承表面上。温度分布对应于待暴露于离子束的基板的第二表面上至少一个光栅的多个部分。此外，可通过个别地控制发光二极管(LED)阵列的LED来控制温度。将基板暴露于离子束，以在至少一个光栅上形成多个鳍片。至少一个光栅具有对应于温度分布的深度分布。

背景

技术领域

本公开内容的多个实施方式一般涉及通过局部加热来控制蚀刻深度的方法以及系统。

背景技术

虚拟现实(virtual reality)通常被认为是计算机生成的仿真环境，其中用户具有明显的实体存在感。虚拟现实体验可以以3D形式产生，并以头戴式显示器(HMD)观看，头戴式显示器(HMD)例如是眼镜或具有作为透镜的近眼显示面板的其他可穿戴式显示设备，以显示取代实际环境的虚拟现实环境。

然而，增强现实(augmented reality)能够实现这样一种体验：其中用户仍然能够通过眼镜或其他HMD装置的显示透镜看，从而观看周围的环境，也可以看为了显示而产生且显现为环境的部分的虚拟对象的图像。增强现实可包括任何类型的输入，例如音频和触觉输入，以及能够强化或增强用户体验的环境的虚拟图像、图形以及视频。作为新兴技术，增强现实存在许多挑战和设计约束。

虚拟图像被覆盖在周围环境上以对用户提供增强的现实体验。波导用于辅助覆盖影像。产生的光传播通过波导，直到光离开波导并覆盖在周围环境上。光学装置通常需要在同一基板上的具有不同物理特性的多重波导，以便引导不同波长的光。

增强现实的一个挑战是，在基板上制造波导是一种困难的处理。经常难以控制材料特性，例如基板的温度，这会影响设置在基板上的光栅的深度轮廓。整个基板上不受控制的温度导致整个基板上的光栅的深度轮廓不受控制且不一致。

因此，需要一种通过提供整个基板上的局部加热来控制蚀刻深度的方法。

发明内容

在一个实施方式中，一种用于控制整个基板的不同区域上的温度的方法包括以下步骤：个别地(individually)控制设置在基板支承组件的介电主体中的多个加热小单元(heating pixels)，多个加热小单元在基板的第一表面上提供温度分布，基板设置在介电主体的支承表面上，温度分布对应于待暴露于离子束的基板的第二表面上至少一个光栅的多个部分；以及将基板暴露于离子束，以在至少一个光栅上形成多个鳍片，至少一个光栅具有对应于温度分布的深度分布，其中：温度分布包括在至少一个光栅的多个部分的第一部分处的第一温度，以及在至少一个光栅的多个部分的第二部分处的第二温度；以及第一温度不同于第二温度。

在另一实施方式中，一种用于控制整个基板的不同区域上的温度的方法包含以下步骤：个别地控制发光二极管(LED)阵列的LED，以在基板的表面上提供温度分布，温度分布对应于待暴露于离子束的基板的表面上的至少一个光栅的多个部分；以及将基板暴露于离子束，以在至少一个光栅上形成多个鳍片，至少一个光栅具有对应于温度分布的深度分布，其中：温度分布包括在至少一个光栅的多个部分的第一部分处的第一温度以及在至少一个光栅的多个部分的第二部分处的第二温度；以及第一温度不同于第二温度。