[发明专利]活性气体生成装置在审
申请号: | 201980080397.0 | 申请日: | 2019-11-27 |
公开(公告)号: | CN113179676A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 渡边谦资;有田廉 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 戚宏梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活性 气体 生成 装置 | ||
本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置,能够有意图地减弱活性气体到达后级的处理空间之前的区域中的电场强度。本发明通过高电压施加电极部(1)与接地电位电极部(2)的组合来构成在内部具有放电空间(6)的电极对。高电压施加电极部(1)作为主要构成部而具有电极用电介质膜(11)以及形成在电极用电介质膜(11)的上表面上的金属电极(10)。辅助导电膜(18)以俯视时不与金属电极(10)重叠且包围金属电极(10)的方式形成为圆环状。金属制的电极按压部件(8)在俯视时呈圆环状,以与辅助导电膜(18)的上表面的一部分接触的形态设置,并被固定于金属制的基底凸缘(4)。基底凸缘(4)被赋予接地电位。
技术领域
本发明涉及一种活性气体生成装置,通过平行平板方式的电介质阻挡放电来生成活性气体,并将活性气体向后级的处理空间供给。
背景技术
作为通过平行平板方式的电介质阻挡放电来生成活性气体的活性气体生成装置,例如存在专利文献1公开的氮自由基生成系统。
在专利文献1所公开的现有的活性气体生成装置中,在装置后级设置有具有处理空间的处理腔室。
作为活性气体生成装置的氮自由基生成系统为,利用电介质阻挡放电,从作为原料气体的氮气生成作为活性气体的氮自由基,并将活性气体向处理腔室喷出。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第6239483号公报
发明内容
发明要解决的课题
在专利文献1所公开的现有的活性气体生成装置中,可以想到,对相互对置的第一电极和第二电极施加的电压会在后级的处理空间中引起异常放电。
即,为了在第一电极、第二电极之间的放电空间中产生电介质阻挡放电而施加的电压,在活性气体生成装置后级的装置即处理腔室的处理室内也生成具有产生绝缘破坏的电场强度的区域,在上述处理室内产生成为金属污染的产生原因的放电即异常放电。
与活性气体生成装置内的空间相比上述处理室处于减压环境下,因此存在异常放电所产生的离子被电场加速后与处理室内的处理对象物即工件碰撞、从而使工件产生损伤的问题。
此外,在活性气体生成装置内也是,在活性气体到达处理室之前的区域中的电场强度较高的情况下,在放电空间以外的区域有可能产生非意图的放电现象,存在装置的内部表面破损等问题。
本发明的目的在于,解决上述那样的问题,提供一种活性气体生成装置,有意图地减弱活性气体到达后级的处理空间之前的区域中的电场强度。
用于解决课题的手段
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