[发明专利]基板处理装置、开闭基板收容容器的盖的方法在审

申请号：	201980071030.2	申请日：	2019-10-23
公开（公告）号：	CN112930592A	公开（公告）日：	2021-06-08
发明（设计）人：	远藤荣几;高塚宏行;向山达也	申请（专利权）人：	东京毅力科创株式会社
主分类号：	H01L21/677	分类号：	H01L21/677;H01L21/02
代理公司：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277	代理人：	刘新宇
地址：	日本***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	处理装置开闭收容容器方法
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【说明书】：

基板处理装置具有基板处理部和控制部。基板处理部具有加载埠，该加载埠构成为配置收容有至少一个基板的基板收容容器。基板处理部构成为从配置于加载埠的基板收容容器取出基板，并且对该基板实施一系列的处理。控制部构成为控制配置于加载埠的基板收容容器的盖的开闭。在将基板收容容器配置于加载埠后，控制部控制为打开盖。在基板处理部发生了异常状态并经过了预先决定的时间、并且在从基板收容容器取出的基板中没有能够回收至所述基板收容容器中的基板的情况下，控制部控制为关闭盖。

技术领域

本公开涉及一种基板处理装置、开闭基板收容容器的盖的方法。

背景技术

在专利文献1中公开了一种基板收容容器的吹扫方法，该方法在持续地向基板收容容器内供给干燥气体的状态下打开所述基板收容容器的盖，在所述基板收容容器内的基板的处理结束后关闭盖，并且停止供给所述干燥气体。根据专利文献1所记载的基板收容容器的吹扫方法，通过将基板收容容器内保持为低湿度的状态来防止在基板收容容器内生成SiO₂、氢氟酸，由此能够将基板收容容器内的基板维持在良好的状态。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-179287号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开所涉及的技术抑制微粒附着于在基板收容容器内处于待机状态的基板。

用于解决问题的方案

本公开的一个方式具有：基板处理部，其具有加载埠，该加载埠构成为配置收容有至少一个基板的基板收容容器，所述基板处理部构成为从配置于所述加载埠的所述基板收容容器取出基板，并且对该基板实施一系列的处理；以及控制部，其构成为控制配置于所述加载埠的所述基板收容容器的盖的开闭，在将所述基板收容容器配置于所述加载埠后，所述控制部控制为打开所述盖，在所述基板处理部发生了异常状态并经过了预先决定的时间、并且从所述基板收容容器取出来的基板中没有能够回收至所述基板收容容器的基板的情况下，所述控制部控制为关闭所述盖。

发明的效果

根据本公开，能够抑制微粒附着于在基板收容容器内处于待机状态的基板。

附图说明

图1是表示本实施方式所涉及的晶圆处理装置的结构的一例的俯视图。

图2是表示本实施方式所涉及的前开式晶圆传送盒的结构的一例的侧视图。

图3是表示本实施方式所涉及的晶圆处理的一例的流程图。

图4是示意性地表示本实施方式所涉及的晶圆处理的处理路径的说明图。

图5是按照处理制程表示出晶圆处理的一系列的流程的说明图。

图6是按照处理制程表示出晶圆处理的一系列的流程的说明图。

图7是按照处理制程表示出晶圆处理的一系列的流程的说明图。

图8是按照处理制程表示出晶圆处理的一系列的流程的说明图。

图9是按照处理制程表示出晶圆处理的一系列的流程的说明图。