[发明专利]用于处理腔室的射频滤波器系统

权利要求书

1.一种用于基板处理腔室的射频(RF)滤波器系统，所述RF滤波器系统包含：

第一RF滤波器，配置成耦合至所述处理腔室的第一元件，所述第一RF滤波器包含：

第一滤波器级，配置成拒绝第一频率，所述第一滤波器级包含第一电感器及第一电容；

第二滤波器级，耦合至所述第一滤波器级，且配置成拒绝第二频率，所述第二滤波器级包含第二电感器及第二电容；和

第三滤波器级，耦合至所述第二滤波器级，且配置成拒绝所述第一频率，所述第三滤波器级包含第三电感器及第三电容；以及

第二RF滤波器，配置成耦合至所述处理腔室的所述第一元件，所述第二RF滤波器包含：

第四滤波器级，配置成拒绝所述第一频率，所述第四滤波器级包含第四电感器及第四电容；

第五滤波器级，耦合至所述第四滤波器级，且配置成拒绝所述第二频率，所述第五滤波器级包含第五电感器及第五电容；和

第六滤波器级，耦合至所述第五滤波器级，且配置成拒绝所述第一频率，所述第六滤波器级包含第六电感器及第六电容。

2.如权利要求1所述的RF滤波器系统，其中所述第一滤波器级所配置成拒绝的所述第一频率大于所述第二滤波器级所配置成拒绝的所述第二频率。

3.如权利要求2所述的RF滤波器系统，其中所述第一频率为约60MHz，且所述第二频率为约13.56MHz。

4.如权利要求1所述的RF滤波器系统，其中所述第一电容为所述第一电感器的寄生电容，所述第三电容为所述第三电感器的寄生电容，所述第四电容为所述第四电感器的寄生电容，且所述第六电容为所述第六电感器的寄生电容。

5.如权利要求4所述的RF滤波器系统，其中第一分立电容器提供所述第二电容，且第二分立电容器提供所述第五电容。

6.如权利要求1所述的RF滤波器系统，其中所述第一电感器的电感及所述第三电感器的电感小于所述第二电感器的电感，且所述第四电感器的电感及所述第六电感器的电感小于所述第五电感器的电感。

7.如权利要求1所述的RF滤波器系统，其中所述第一RF滤波器及所述第二RF滤波器进一步配置成耦合至交流电源供应器。

8.如权利要求7所述的RF滤波器系统，进一步包含：

第三RF滤波器，包含：

第七滤波器级，配置成拒绝所述第一频率，所述第七滤波器级包含第七电感器及第七电容；

第八滤波器级，耦合至所述第四滤波器级，且配置成拒绝所述第二频率，所述第八滤波器级包含第八电感器及第八电容；和

第九滤波器级，耦合至所述第五滤波器级，且配置成拒绝所述第一频率，所述第九滤波器级包含第九电感器及第九电容，其中所述第三RF滤波器耦合至高电压电源供应器，且耦合至所述基板处理腔室的第二元件。