[发明专利]细胞培养基材、细胞培养基材的制造方法、及球状体的制造方法

说明书

提供：能够使细胞有效形成球状体并且细胞的存活率高、能够形成尺寸均匀且形状任意的球状体的细胞培养基材；以及，该细胞培养基材的制造方法；使用该细胞培养基材的、球状体内部的细胞存活率优异的球状体制造方法。一种细胞培养基材，其特征在于，其具有基材及覆盖于前述基材上的刺激应答性高分子，前述刺激应答性高分子是具有水不溶性嵌段链段和刺激应答性嵌段链段的嵌段共聚物，前述细胞培养基材具有下述(A)和(B)这2个区域。(A)是具有细胞增殖性和刺激应答性、且面积为0.001～5mm²的岛状的区域。(B)是与前述(A)区域相邻且不具有细胞增殖性的区域。

技术领域

本发明涉及：能够有效地形成球状体、并且能够形成尺寸均匀且形状任意的球状体的细胞培养基材；以及，该细胞培养基材的制造方法；使用该细胞培养基材的球状体的制造方法。

背景技术

胚胎细胞(ES细胞)、人工细胞(iPS细胞)等多能干细胞是具有分化为生物体各种组织的能力(分化全能性)的细胞，作为用于再生医疗领域、药物发现筛选的细胞的来源而受到广泛注目。为了将多能干细胞应用于再生医疗、药物发现筛选，必须使多能干细胞分化为目标细胞，此时需要形成多能干细胞的球状体(胚状体)。另外，多能干细胞虽能分化为各种细胞，但已知球状体的最适尺寸会根据分化后的细胞的种类不同，期望的是控制尺寸、制作尺寸更均匀的球状体。

作为形成球状体的方法，目前已知通过使用不会粘附多能干细胞的基材而使多能干细胞自发形成聚集体的方法(例如，参照专利文献1。)。该方法虽然在球状体的批量生产性方面优异，但存在无法获得尺寸均匀的球状体这样的问题。

作为形成尺寸均匀的球状体的方法，已知使用在表面设置了微细的凹凸的细胞培养基材的方法(例如，参照专利文献2。)。然而，这种设置有微细的凹凸的细胞培养基材存在缺乏批量生产性、且不适于形成大量的球状体的用途这样的问题。另外，能形成的球状体仅限于球形，存在无法形成除球形以外的形状的球状体这样的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平8-140673号公报

专利文献2：日本特开2015-073520号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供：能够使细胞有效形成球状体、并且能形成尺寸均匀且形状任意的球状体的细胞培养基材；该细胞培养基材的制造方法；及使用该细胞培养基材的球状体的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人等鉴于以上的情况而进行了深入研究，结果发现，通过特定的形成有具有刺激应答性的区域的基材能够解决上述课题，从而完成了本发明。

即，本发明在于以下的[1]至[12]。

[1]一种细胞培养基材，其特征在于，其具有基材及覆盖于前述基材上的刺激应答性高分子，前述刺激应答性高分子是具有水不溶性嵌段链段和刺激应答性嵌段链段的嵌段共聚物，前述细胞培养基材具有下述(A)和(B)这2个区域，

(A)具有细胞增殖性和刺激应答性、且面积为0.001～5mm²的岛状的区域。

(B)是与前述(A)区域相邻且不具有细胞增殖性的区域。

[2]根据前述[1]所述的细胞培养基材，其特征在于，前述(A)区域包含下述(A1)和(A2)这2个区域，前述(B)区域包含下述(B1)和(B2)这2个区域。

(A1)细胞增殖性区域

(A2)刺激应答性区域

(B1)基材粘接区域

(B2)刺激应答性区域