[发明专利]多源照射单元及其操作方法在审
| 申请号: | 201980067125.7 | 申请日: | 2019-09-20 |
| 公开(公告)号: | CN112840271A | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
| 发明(设计)人: | 张剑;王義向;康志文 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑振 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 照射 单元 及其 操作方法 | ||
一种照射单元包括第一电磁波源,该第一电磁波源包括用于在第一方向上输出第一电磁波以照射样品的第一区域的电路系统;第二电磁波源,该第二电磁波源包括用于在与第一方向基本相反的第二方向上输出第二电磁波的电路系统;以及反射器,该反射器被配置为基本上沿第一方向反射第二电磁波以照射样品的第二区域。
本申请要求于2018年10月11日提交的美国申请62/744,558的优先权,其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
与本公开一致的装置和方法一般涉及光学器件,并且更具体涉及具有两个电磁波源的照射单元。
背景技术
照射单元是用于各种应用的光学系统中的关键部件中的一个关键部件,该各种应用例如半导体晶片检查系统、光刻系统、投影仪系统、生物样品成像系统等。包括诸如发光二极管(LED)灯或氙气灯之类的光源的照射单元通常提供具有固定视场的单调电磁波。期望本领域的进一步改进。
发明内容
根据本公开的一些实施例,提供了一种照射单元。该照射单元包括第一电磁波源,该第一电磁波源包括用于在第一方向上输出第一电磁波以照射样品的第一区域的电路系统;以及第二电磁波源,该第二电磁波源包括用于在与第一方向基本上相反的第二方向上输出第二电磁波的电路系统;以及反射器,该反射器被配置为基本上沿第一方向反射第二电磁波,以照射样品的第二区域。
照射单元还可以包括第一控制器,该第一控制器包括用于控制第一电磁波源的电路系统;以及第二控制器,该第二控制器包括用于控制第二电磁波源的电路系统,其中第一控制器和第二控制器可以协同或独立操作。
照射单元还可以包括第一移动机构,该第一移动机构由第一控制器控制以移动第一电磁波源;以及第二移动机构,该第二移动机构由第二控制器控制以移动第二电磁波源,其中第一移动机构和第二移动机构中的至少一个移动机构包括以下各项中的一项:伺服电机、机械臂、磁悬浮系统、以及磁力控制系统。
照射单元还可以包括第一扩散器,该第一扩散器面对第一电磁波源的照射表面并且被配置为扩散从第一电磁波源输出的第一电磁波;以及聚光器,该聚光器面对第一扩散器并且准直通过第一扩散器扩散的第一电磁波。反射器的直径可以大于第一扩散器的直径,并且聚光器的尺寸可以与第一扩散器的尺寸基本相同。聚光器和第一扩散器可以接触。
照射单元还可以包括第二扩散器,该第二扩散器面对反射器并且被配置为扩散从反射器反射的第二电磁波。第二扩散器的尺寸可以大于第一扩散器的尺寸。第一扩散器和第二扩散器可以由相同的材料或不同的材料制成。
照射单元还可以包括投影透镜,该投影透镜被配置为将第一扩散器和第二扩散器中的至少一个扩散器投影到预先确定的位置,其中投影透镜的半径与第二扩散器的半径基本相同。
根据本公开的一些实施例,提供了一种照射单元,其包括第一扩散器,该第一扩散器被配置为将来自第一电磁波源的第一电磁波扩散到样品的第一区域上;以及第二扩散器,其被配置为将来自第二电磁波源的第二电磁波扩散到样品的第二区域上,其中从第一扩散器和第二扩散器扩散的第一电磁波和第二电磁波同时照射样品的第一区域和第二区域。第一扩散器和第二扩散器可以彼此交叠。第一扩散器的尺寸可以小于第二扩散器的尺寸。第一扩散器可以放置在第二扩散器的凹入部分中,使得第一扩散器和第二扩散器放置在同一平面上。在本公开的一些实施例中,第一电磁波源和第二电磁波源可以平行布置,使得源自第一电磁波源和第二电磁波源的第一电磁波和第二电磁波具有相同的传播方向。在本公开的一些实施例中,第一电磁波源和第二电磁波源可以以背对背形式布置,并且照射单元还可以包括反射器,该反射器将第二电磁波反射到与第一电磁波的传播方向基本上相同的方向。
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