[发明专利]多源照射单元及其操作方法在审

专利信息
申请号: 201980067125.7 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN112840271A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 张剑;王義向;康志文 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑振
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 照射 单元 及其 操作方法
【权利要求书】:

1.一种照射单元,包括:

第一电磁波源,包括用于在第一方向上输出第一电磁波以照射样品的第一区域的电路系统;

第二电磁波源,包括用于在与所述第一方向基本上相反的第二方向上输出第二电磁波的电路系统;以及

反射器,被配置为基本上在所述第一方向上反射所述第二电磁波,以照射所述样品的第二区域。

2.根据权利要求1所述的照射单元,还包括:

第一控制器,包括用于控制所述第一电磁波源的电路系统;以及

第二控制器,包括用于控制所述第二电磁波源的电路系统,

其中所述第一控制器和所述第二控制器独立操作。

3.根据权利要求2所述的照射单元,还包括:

第一移动机构,由所述第一控制器控制以使所述第一电磁波源沿所述第一方向移动。

4.根据权利要求2所述的照射单元,还包括:

第二移动机构,由所述第二控制器控制以使所述第二电磁波源沿所述第二方向移动。

5.根据权利要求3所述的照射单元,其中所述第一移动机构或所述第二移动机构包括伺服电机、机械臂、磁悬浮系统、或磁力控制系统。

6.根据权利要求5所述的照射单元,其中所述第一移动机构或所述第二移动机构包括伺服电机、机械臂、磁悬浮系统、或磁力控制系统包括:所述第一移动机构和所述第二移动机构包括伺服电机、机械臂、磁悬浮系统、或磁力控制系统中的一项或多项。

7.根据权利要求1所述的照射单元,还包括:

第一扩散器,面对所述第一电磁波源的照射表面并且被配置为扩散从所述第一电磁波源输出的所述第一电磁波。

8.根据权利要求7所述的照射单元,其中所述反射器的直径大于所述第一扩散器的直径。

9.根据权利要求7所述的照射单元,还包括:

聚光器,面对所述第一扩散器并且准直通过所述第一扩散器扩散的所述第一电磁波。

10.根据权利要求9所述的照射单元,其中所述聚光器和所述第一扩散器接触。

11.根据权利要求9所述的照射单元,其中所述聚光器具有与所述第一扩散器的尺寸基本上相同的尺寸。

12.根据权利要求7所述的照射单元,还包括:

第二扩散器,面对所述反射器并且被配置为扩散从所述反射器反射的所述第二电磁波。

13.根据权利要求12所述的照射单元,其中所述第二扩散器的尺寸大于所述第一扩散器的尺寸。

14.根据权利要求12所述的照射单元,其中所述第一扩散器和所述第二扩散器由相同的材料制成。

15.一种用于照射样品的方法,包括:

在第一方向上输出第一电磁波,以照射所述样品的第一区域;

在与所述第一方向基本上相反的第二方向上输出第二电磁波;以及

基本上在所述第一方向上反射所述第二电磁波,以照射所述样品的第二区域。

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