[发明专利]含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统和处理方法

权利要求书

1.一种含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统，其特征在于，具有：

高压型反渗透膜装置，其中，在浓缩侧浓缩包含四烷基氢氧化铵的被处理液；以及

管线，其将由该反渗透膜装置浓缩后的被处理液供给至进一步进行浓缩的蒸发器。

2.根据权利要求1所述的含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统，其中，所述含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统具有清洗系统，

所述清洗系统通过含有四烷基氢氧化铵的清洗液清洗所述反渗透膜装置。

3.根据权利要求1或2所述的含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统，其中，所述含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统能够将该处理系统的一部分作为包含所述反渗透膜装置而构成的循环系统，通过使含有四烷基氢氧化铵的清洗液在该循环系统中循环，能够将该循环系统用作对所述反渗透膜装置的反渗透膜进行清洗的清洗系统。

4.根据权利要求3所述的含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统，其中，所述含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统具有：

(a-1)液槽，其中，贮存含有四烷基氢氧化铵的液体；

(b-1)液体供给配管，其一端与该液槽的液体排出侧连接；

(c-1)反渗透膜装置，其连接该液体供给配管的另一端；

(d-1)浓缩水配管，其一端与该反渗透膜装置的浓缩侧连接且将该反渗透膜装置的浓缩水供给至蒸发器；

(e-1)浓缩水送回配管，其与该浓缩水配管连接且向所述液槽供给所述反渗透膜装置的浓缩水；

(f-1)透过水配管，其一端与所述反渗透膜装置的透过侧连接；

(g-1)稀四烷基氢氧化铵排水处理设备，其与该透过水配管的另一端连接；以及

(h-1)透过水送回配管，其与该透过水配管连接且向所述液槽供给所述反渗透膜装置的透过水，

所述清洗系统是以下系统：向所述液槽供给四烷基氢氧化铵新液，使所述四烷基氢氧化铵新液在由所述(a-1)～(d-1)和(e-1)形成的循环系统以及由所述(a-1)～(c-1)、(f-1)和(h-1)形成的循环系统这两个循环系统中循环，对所述反渗透膜装置具有的反渗透膜进行清洗。

5.根据权利要求3所述的含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统，其中，所述含有四烷基氢氧化铵的液体的处理系统具有：

(a-2)液槽，其中，贮存含有四烷基氢氧化铵的液体；

(b-2)液体供给配管，其一端与该液槽的液体排出侧连接；

(c-2)反渗透膜装置，其与该液体供给配管的另一端连接；

(d-2)浓缩水配管，其一端与该反渗透膜装置的浓缩侧连接且将该反渗透膜装置的浓缩水供给至蒸发器；

(e-2)浓缩水送回配管，其与该浓缩水配管连接且向所述液槽供给所述反渗透膜装置的浓缩水；

(f-2)透过水配管，其一端与所述反渗透膜装置的透过侧连接；

(g-2)透过水槽，其配置在该透过水配管的中途；

(h-2)稀四烷基氢氧化铵排水处理设备，其与该透过水配管的另一端连接；以及

(i-2)透过水送回配管，其与位于所述透过水槽与所述稀四烷基氢氧化铵排水处理设备之间的所述透过水配管连接且向所述液槽供给所述反渗透膜装置的透过水，

所述清洗系统是以下系统：向所述液槽供给四烷基氢氧化铵新液，使所述四烷基氢氧化铵新液在由所述(a-2)～(d-2)和(e-2)形成的循环系统以及由所述(a-2)～(c-2)、(f-2)、(g-2)和(i-2)形成的循环系统这两个循环系统中循环，对所述反渗透膜装置具有的反渗透膜进行清洗。