[发明专利]涡环产生装置在审
| 申请号: | 201980063774.X | 申请日: | 2019-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN112789454A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
| 发明(设计)人: | 藤井智步;江村知恵;今井洋辅;宇多全史;上野瑞穂 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
| 主分类号: | F24F13/06 | 分类号: | F24F13/06;A61L9/00;B05B17/04;F24F6/00;F24F6/18 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 马淑香 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 产生 装置 | ||
在涡环产生装置中设定成:当设挤压体积为V(m3),设排放口(25)的直径为D(m),设直径为D且体积为V的圆柱的长度为L(m),设所排放的气体的雷诺数为Re时,满足500≤Re≤3000和0.5≤L/D≤2.0的关系。
技术领域
本公开涉及一种涡环产生装置。
背景技术
专利文献1公开了一种生成涡环、使涡环含有例如香味成分并将其供向规定区域的装置。
就专利文献1的装置而言,在将挤压空气的风速设为U、将排出时间设为T、将排放口的开口半径设为R的情况下,对UT/R(吹出口的半径与挤压体积之比)的范围、空气的雷诺数的范围加以限定,来生成涡环和通过涡环内侧而前进的直行流。
专利文献1:日本公开专利公报特开2008-018394号公报
发明内容
-发明要解决的技术问题-
在专利文献1的结构下,在使涡环含有例如作为添加物的香味成分的情况下,直行流中也会含有香味成分,有时香味成分会被送到不想供给涡环的地方。其结果是,有可能香味会滞留在包括不想输送香味成分的地方在内的较大范围,从而致使嗅觉习惯香味而感受不到效果、或者给身处不希望输送香味的地方的人带来不快。因此,希望抑制直行流生成,在稳定的状态下生成涡环,并能仅将涡环输送到希望输送的地方。
本公开的目的在于:生成几乎不含直行流的稳定的涡环,并将该涡环输送至希望输送的地方。
-用以解决技术问题的技术方案-
本公开的第一方面以一种涡环产生装置为前提,其包括机壳20和挤压机构30,在所述机壳20形成有气体通道C和排放口25,所述挤压机构30挤压所述气体通道C中的气体,使得所述气体通道C中的气体呈涡环状地被从所述排放口25放出。
而且,该涡环产生装置的特征在于:当设挤压体积为V(m3),设排放口25的直径为D(m),设直径为D且体积为V的圆柱的长度(圆柱等效长度)为L(m),设被放出的气体的雷诺数为Re时,满足500≤Re≤3000和0.5≤L/D≤2.0的关系。
专利文献1中所记载的UT/R的范围是1≤UT/R≤5(0.5≤L/D≤2.5)这一较大的范围,当UT/R大于4时,涡环就会不稳定,而成为拖尾状态。另外,在专利文献1中,虽然包含了直至雷诺数Re大于10000的范围,但实际上当雷诺数Re大于3000时,涡环的紊乱增加,涡环一边扩散一边移动而容易消失。
在第一方面中,在示出涡环生成试验的结果的曲线图即图3中,因为雷诺数Re和L/D比包含在满足500≤Re≤3000和0.5≤L/D≤2.0的关系的范围A中,所以生成几乎不包含直行流的稳定的涡环。
本公开的第二方面在第一方面的基础上,其特征在于:满足1000≤Re≤2500和0.75≤L/D≤2.0的关系。
在第二方面中,在图3中,因为雷诺数Re和L/D比包含在满足1000≤Re≤2500和0.75≤L/D≤2.0的关系的范围B中,所以生成比范围A稳定的涡环。
本公开的第三方面在第二方面的基础上,其特征在于:满足1500≤Re≤2000和1.0≤L/D≤2.0的关系。
在第三方面中,在图3中,因为雷诺数Re和L/D比包含在满足1500≤Re≤2000和1.0≤L/D≤2.0的关系的范围C中,所以生成比范围B更稳定的涡环。
本公开的第四方面在第一到第三方面中任一方面的基础上,其特征在于:当设吹出流速(m/s)为U时,满足0.06≤D≤0.15、0.12≤L≤0.3、及0.3≤U≤0.75的关系。
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