[发明专利]涡环产生装置在审

专利信息
申请号: 201980063774.X 申请日: 2019-09-25
公开(公告)号: CN112789454A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 藤井智步;江村知恵;今井洋辅;宇多全史;上野瑞穂 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: F24F13/06 分类号: F24F13/06;A61L9/00;B05B17/04;F24F6/00;F24F6/18
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 马淑香
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 产生 装置
【权利要求书】:

1.一种涡环产生装置,其包括机壳(20)和挤压机构(30),在所述机壳(20)形成有气体通道(C)和排放口(25),所述挤压机构(30)挤压所述气体通道(C)中的气体,使得所述气体通道(C)中的气体呈涡环状地被从所述排放口(25)放出,其特征在于:

当设挤压体积为V且单位为m3,设排放口(25)的直径为D且单位为m,设直径为D且体积为V的圆柱的长度为L且单位为m,设被放出的气体的雷诺数为Re时,满足500≤Re≤3000和0.5≤L/D≤2.0的关系。

2.根据权利要求1所述的涡环产生装置,其特征在于:

满足1000≤Re≤2500和0.75≤L/D≤2.0的关系。

3.根据权利要求2所述的涡环产生装置,其特征在于:

满足1500≤Re≤2000和1.0≤L/D≤2.0的关系。

4.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的涡环产生装置,其特征在于:

当设吹出流速为U且单位为m/s时,满足0.06≤D≤0.15、0.12≤L≤0.3、及0.3≤U≤0.75的关系。

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