[发明专利]最佳量测指导的系统和方法

说明书

公开了用于最佳电子束量测指导的系统和方法。根据某些实施例，该方法可以包括：接收样本的获取的图像；基于对获取的图像的分析确定图像参数集；基于图像参数集确定模型参数集；基于模型参数集生成模拟图像集。该方法还可以包括：对模拟图像集执行临界尺寸的测量，并且将临界尺寸测量与模型参数集进行对比，以基于来自模拟图像集和模型参数集的信息的对比来提供指导参数集。该方法还可以包括接收与包括临界尺寸均匀性的目标参数相关联的辅助信息。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年8月28日提交的美国申请62/723,983的优先权，其全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本文中的描述涉及量测指导领域，并且更具体地，涉及推荐用于量测的参数的最佳量测指导系统。

背景技术

在集成电路(IC)的制造过程中，未完成或已完成的电路部件被检查以确保它们是根据设计而制造的并且没有缺陷。可以采用利用光学显微镜或带电粒子(例如，电子)束显微镜的检查系统，诸如扫描电子显微镜(SEM)。随着IC部件的物理尺寸的不断缩小，缺陷检测的准确性和产率变得越来越重要。同样重要的是用于监测半导体制造过程和晶片上的特征的再现性的临界尺寸控制。由于缺乏检查工具条件的地面真实知识和基础成像样本的统计信息，因此无法根据经验设置量测参数。

因此，相关技术系统在例如通过用于半导体制造过程的量测进行的临界尺寸测量的准确性方面面临局限。需要本领域的进一步改进。

发明内容

本公开的实施例提供了用于量测系统的系统和方法。在一些实施例中，提供了一种量测系统。量测系统可以包括存储指令集的存储器和处理器。量测系统的处理器可以被配置为执行指令集以引起量测系统接收获取的图像，基于对获取的图像的分析确定图像参数集，从图像参数集中确定模型参数集，使用模型参数集生成模拟图像集，并且基于对模拟图像集和模型参数集的分析输出指导参数集。量测系统可以包括被配置为获取样本的图像的带电粒子束装置。模拟图像集可以包括单个模拟图像。该分析可以包括来自模拟图像集和模型参数集的信息的对比。来自模拟图像集的信息可以包括临界尺寸测量结果。图像参数集可以包括噪声水平、感兴趣图案、线条粗糙度或边缘轮廓，并且模型参数集是基于质量度量或多个质量度量从图像参数集中确定的。多个质量度量可以包括局部噪声水平、全局噪声水平、边缘轮廓统计信息或图案结构中的任一项。指导参数集可以包括推荐的成像参数、临界尺寸均匀性参数、测量精度、可重复性或测量准确性中的一项或多项。量测系统的处理器还可以被配置为执行指令集以进一步引起量测系统接收与目标参数相关联的辅助信息，并且基于所接收的辅助信息分析获取的图像。目标参数可以包括目标节距、目标临界尺寸均匀性、目标图案或目标测量精度。指令集可以引起量测系统进一步对模拟图像执行临界尺寸的测量，并且将临界尺寸测量与模型参数集进行对比。

在一些实施例中，提供了一种量测指导系统。量测指导系统可以包括：存储指令集的存储器；以及处理器，该处理器被配置为：执行指令集以引起量测指导系统基于对获取的图像的分析确定图像参数集、基于图像参数集确定模型参数集、基于模型参数集生成模拟图像集、分析模拟图像集以及基于对模拟图像集和模型参数集的分析输出指导参数集。模拟图像集可以包括单个模拟图像。该分析可以包括来自模拟图像集和模型参数集的信息的对比。来自模拟图像集的信息可以包括临界尺寸测量结果。对模拟图像集的分析可以包括对模拟图像集执行临界尺寸的测量，并且将临界尺寸测量与模型参数集进行对比。该指令集可以引起量测系统进一步接收与目标参数相关联的辅助信息，和基于所接收的辅助信息分析获取的图像。目标参数可以包括目标节距、目标临界尺寸均匀性、目标图案或目标测量精度。图像参数集可以包括噪声水平、感兴趣图案、线条粗糙度或边缘轮廓，并且模型参数集是基于质量度量或多个质量度量从图像参数集中确定的。多个质量度量可以包括局部噪声水平、全局噪声水平、边缘轮廓统计信息或图案结构。指导参数集可以包括推荐的成像参数、临界尺寸均匀性参数、测量精度、可重复性或测量准确性中的一项或多项。