[发明专利]最佳量测指导的系统和方法在审

专利信息
申请号: 201980056714.5 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN112689802A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 浦凌凌;方伟;赵楠;周文天;王腾;徐明 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/86
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;胡良均
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 最佳 指导 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种量测系统,包括:

存储器,存储指令集;以及

处理器,被配置为执行所述指令集以引起所述量测系统:

接收样本的获取的图像;

基于对所述获取的图像的分析确定图像参数集;

基于所述图像参数集确定模型参数集;

基于所述模型参数集生成模拟图像集;以及

基于对所述模拟图像集和所述模型参数集的分析输出指导参数集。

2.根据权利要求1所述的系统,还包括:被配置为获取所述样本的图像的带电粒子束装置。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述模拟图像集仅包括单个模拟图像。

4.根据权利要求1所述的系统,其中所述分析包括:来自所述模拟图像集和所述模型参数集的信息的对比。

5.根据权利要求4所述的系统,其中来自所述模拟图像集的所述信息包括临界尺寸测量结果。

6.根据权利要求1所述的系统,其中所述图像参数集、所述模型参数集或所述指导参数集中的至少一项包括单个参数。

7.根据权利要求1所述的系统,其中所述图像参数集包括噪声水平、感兴趣图案、线条粗糙度或边缘轮廓中的任一项。

8.根据权利要求1所述的系统,其中所述模型参数集是基于质量度量自所述图像参数集被确定的。

9.根据权利要求8所述的系统,其中所述模型参数集自所述图像参数集被确定是基于多个质量度量。

10.根据权利要求9所述的系统,其中所述多个质量度量包括局部噪声水平、全局噪声水平、边缘轮廓统计信息或图案结构中的任一项。

11.根据权利要求1所述的系统,其中所述指导参数集包括推荐的成像参数、临界尺寸均匀性参数、测量精度、可重复性或测量准确性中的任一项。

12.根据权利要求1所述的系统,其中所述处理器被配置为执行所述指令集以进一步引起所述量测系统:

接收与目标参数相关联的辅助信息;以及

基于所接收的辅助信息分析所述获取的图像。

13.根据权利要求12所述的系统,其中所述目标参数包括目标节距、目标临界尺寸均匀性、目标图案或目标测量精度中的任一项。

14.根据权利要求1所述的系统,其中所述处理器被配置为执行所述指令集以进一步引起所述量测系统:

对所述模拟图像集执行临界尺寸的测量以获取临界尺寸测量;以及

将所述临界尺寸测量与所述模型参数集进行对比。

15.一种非暂态计算机可读介质,包括指令集,所述指令集由装置的一个或多个处理器可执行以引起所述装置执行方法,所述方法包括:

接收样本的获取的图像;

基于对所述获取的图像的分析确定图像参数集;

基于所述图像参数集确定模型参数集;

基于所述模型参数集生成模拟图像集;以及

基于对所述模拟图像集和所述模型参数集的分析提供指导参数集。

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