[发明专利]成形模及透镜

说明书

本发明的目的在于提供一种无需在成形模的表面设置脱模材料层的成形模。此外，本发明的目的还在于提供一种耐久性优异并且表面具有拒水性的透镜。本发明涉及一种成形模，具备基底部与具有设置在基底部的表面的凹凸的图案部，图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15～50nm，图案部的凹凸部比率(凸/凸部与凸部的中心间的距离)为0.5以下，图案部的凸部的高度为2nm以上，图案部的缺陷密度为10×10¹⁰cm²以下。此外，本发明还涉及一种透镜，具备基底部与具有设置在基底部的表面的凹凸的图案部，图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15～50nm。

技术领域

本发明涉及成形模及透镜。

背景技术

作为用于进行微细的图案形成的技术，存在以下技术：准备具有与在基板上欲形成的图案相反的图案的凹凸的模具，通过对形成于被转印基板表面的抗蚀剂膜层进行压印来转印规定的图案。例如，在作为用于形成微细的凹凸形状的结构体的图案转印技术的纳米印刷法中，存在使Ni模具与转印基板无需利用机械性作用进行剥离而使其脱模的技术(例如专利文献1)。

本发明人对中性粒子束加工装置进行研究开发，完成了能够通过在激发稀有气体而产生等离子体，对该等离子体中的带电粒子施加电场而赋予规定的能量，并且使带电粒子中性化而生成中性粒子，控制中性粒子的能量，从而可以进行形成于基板表面的氧化膜的去除、污染物质的去除、表面的整备等工序的前处理、后处理、退火处理等的装置(例如专利文献2)。并且，使用该中性粒子束加工装置开发出了具有均一性较高的量子纳米点的半导体激光装置(例如专利文献3)。

对于眼用透镜和拍摄用透镜等透镜，研究对其表面赋予拒水性。作为对透镜的表面赋予拒水性的方法，研究通过涂层等将具有拒水性的层设置在在透镜表面，但存在由于长期的使用而使具有拒水性的层从表面剥落等耐久性方面的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开第2006-289519号公报

专利文献2：日本特开第2009-290026号公报

专利文献3：国际公开第2012/173162号

发明内容

发明要解决的技术问题

在专利文献1所公开的技术中，具有金属模具底座、和在大气中自发地形成于其外表面或者通过调整温度气氛而形成的氧化覆膜，并在形成了凹凸形状的成形模的氧化覆膜的表面形成有脱模材料层。因此，由于需要形成脱模材料层且设置纳米尺寸的微小凹凸，制造成本变高。

本发明的第一技术问题的目的在于，提供一种无需在成形模的表面设置脱模材料层的成形模及使用了该成形模的成形品的制造方法。

本发明的第二技术问题的目的在于，提供一种耐久性优异并且表面具有拒水性的透镜。

用于解决上述技术问题的方案

本发明的技术问题能够通过以下的[1]～[10]解决。

[1]一种成形模，具备：基底部；图案部，具有设置在基底部的表面的凹凸，图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15～50nm，图案部的凹凸部比率(凸/凸部与凸部的中心间距离)为0.5以下，图案部的缺陷密度为10×10¹⁰cm²以下；

[2]如上述[1]所述的成形模，在图案部的表面不具有由氧化物构成的层；

[3]如上述[1]或[2]所述的成形模，基底部与图案部由相同的材料构成；

[4]如上述[1]～[3]任一项所述的成形模，图案部中的(凸部的高度)/(凸部与凸部的中心间的距离)之比为1～10；