[发明专利]成形模及透镜在审
| 申请号： | 201980055209.9 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN112638612A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 寒川诚二;大堀大介 | 申请（专利权）人： | 东北泰克诺亚奇股份有限公司;长濑产业株式会社 |
| 主分类号： | B29C33/44 | 分类号： | B29C33/44;B29C33/42;B29C51/30 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 成形 透镜 | ||
1.一种成形模，其特征在于，具备：
基底部；
图案部，具有设置在基底部的表面的凹凸，
图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15～50nm，
图案部的凹凸部比率即凸/凸部与凸部的中心间的距离为0.5以下，
图案部的凸部的高度为2nm以上，
图案部的缺陷密度为10×1010cm2以下。
2.如权利要求1所述的成形模，其特征在于，在图案部的表面不具有由氧化物构成的层。
3.如权利要求1或2所述的成形模，其特征在于，基底部与图案部由相同的材料构成。
4.如权利要求1～3的任一项所述的成形模，其特征在于，图案部中，凸部的高度/凸部与凸部的中心间的距离之比为0.4～10。
5.一种成形品的制造方法，其特征在于，使用如权利要求1～4的任一项所述的成形模，转印图案部的凹凸。
6.一种透镜，其特征在于，具备：
基底部；
图案部，具有设置在基底部的表面的凹凸，
图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15～50nm。
7.如权利要求6所述的透镜，其特征在于，图案部的凸部与凸部的最短距离为5nm。
8.如权利要求6或7所述的透镜，其特征在于，图案部的缺陷密度为10×1010cm2以下。
9.如权利要求6～8的任一项所述的透镜，其特征在于，在图案部的表面不具有由氧化物构成的层。
10.一种物品的制造方法，制造所述物品，该物品具备：基底部；和具有设置在基底部的表面的凹凸的图案部，图案部的凸部与凸部的中心间的距离为15～50nm，该物品的制造方法包括：
使由聚合物修饰的核壳结构体均匀地被吸附在基底部的表面或者设置于基底部上的层的表面的工序；
去除核壳结构体的壳的工序；
将核壳结构体的核作为掩膜，对基底部进行蚀刻的工序。
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