[发明专利]有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物

权利要求书

1.一种有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

所述有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物包含在有机-无机杂化光刻胶的薄膜形成工艺、显影工艺、剥离工艺中使用的以下化学式1，

所述化学式1中R₁、R₂及R₃相互独立地为碳数为1至6的烷基、苄基或烷基醇基。

2.根据权利要求1所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

所述有机-无机杂化光刻胶的无机物是选自由钴、锑、铪、钯、锡或它们的混合物组成的组中的任一种。

3.根据权利要求1所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

所述有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，由

i)化学式1的化合物；及

ii)酮类、酯类、醚类、添加剂或它们的混合物，组成。

4.根据权利要求3所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

所述有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，由

i)化学式1的化合物70至99重量％；及

ii)酮类、酯类、醚类、添加剂或它们的混合物1至30重量％，组成。

5.根据权利要求4所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

所述有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物由：

i)化学式1的化合物70至95重量％；以及

ii)酮类、酯类、醚类、添加剂或它们的混合物5至30重量％，组成。

6.根据权利要求3所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

化学式1的化合物为乙酰丙酮。

7.根据权利要求3所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

酮类为2-庚酮、环己酮、环戊酮或它们的混合物。

8.根据权利要求3所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

酯类为丙二醇单甲醚乙酸酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、γ-丁内酯、乳酸乙酯、羟基异丁酸甲酯或它们的混合物。

9.根据权利要求3所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

醚类为丙二醇单甲醚。

10.根据权利要求3所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

添加剂为螯合剂或表面活性剂。

11.根据权利要求10所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

螯合剂为离子性液体、二羟基苯甲酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、酒石酸或它们的混合物。

12.根据权利要求10所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

表面活性剂为聚丙二醇、聚天冬氨酸或它们的混合物。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的有机-无机杂化光刻胶工艺液体组合物，其特征在于，

由电子束、EUV、ArF及KrF激光的照射执行有机-无机杂化光刻胶图案化工艺。