[发明专利]LTA4H抑制剂的晶型在审
申请号: | 201980050149.1 | 申请日: | 2019-07-29 |
公开(公告)号: | CN112513026A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | A·柯迪考斯基;吴艳香 | 申请(专利权)人: | 诺华股份有限公司 |
主分类号: | C07D401/12 | 分类号: | C07D401/12;A61P29/00;A61K31/4439 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 杨春刚;黄革生 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | lta4h 抑制剂 | ||
1.一种化合物(S)-3-氨基-4-(5-(4-((5-氯-3-氟吡啶-2-基)氧基)苯基)-2H-四唑-2-基)丁酸呈其游离形式的晶型。
2.根据权利要求1所述的晶型,所述晶型包括B型。
3.根据权利要求1或2所述的晶型,其特征在于:以下特征之一:
(i)包括在约25℃的温度下和的x-射线波长λ下测量,就2θ而言,在22.6±0.2°2θ、24.1±0.2°2θ和26.3±0.2°2θ处的代表性峰的x-射线粉末衍射图;
(ii)包括在约25℃的温度下和的x-射线波长λ下测量,选自下组的四个或更多个2θ值的x-射线粉末衍射图,所述组由以下组成:11.3±0.2°2θ、12.8±0.2°2θ、15.2±0.2°2θ、19.7±0.2°2θ、20.0±0.2°2θ、20.3±0.2°2θ、21.0±0.2°2θ、22.6±0.2°2θ、24.1±0.2°2θ、24.4±0.2°2θ、25.1±0.2°2θ、26.3±0.2°2θ、28.5±0.2°2θ、和30.0±0.2°2θ;以及
(iii)包括在约25℃的温度下和的x-射线波长λ下测量,选自下组的五个或更多个2θ值的x-射线粉末衍射图,所述组由以下组成:11.3±0.2°2θ、12.8±0.2°2θ、15.2±0.2°2θ、19.7±0.2°2θ、20.0±0.2°2θ、20.3±0.2°2θ、21.0±0.2°2θ、22.6±0.2°2θ、24.1±0.2°2θ、24.4±0.2°2θ、25.1±0.2°2θ、26.3±0.2°2θ、28.5±0.2°2θ、和30.0±0.2°2θ。
4.根据权利要求1、2或3所述的晶型,所述晶型具有与图1所示的x-射线粉末衍射谱基本上相同的x-射线衍射谱。
5.根据权利要求1、2、3或4所述的晶型,所述晶型具有与图2所示的图基本上相同的差示扫描量热法(DSC)热分析图。
6.根据权利要求1、2、3、4或5所述的晶型,所述晶型具有与图3所示的图基本上相同的热重量分析(TGA)图。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的晶型,所述晶型基本上由B型组成。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的晶型,其中所述晶型是呈基本上相纯形式的B型。
9.根据权利要求1所述的晶型,其中所述化合物是水合物。
10.根据权利要求9所述的晶型,所述晶型包括HB型。
11.根据权利要求9或10所述的晶型,其特征在于:以下特征之一:
(i)包括在约25℃的温度下和的x-射线波长λ下测量,就2θ而言,在22.1±0.2°2θ、23.8±0.2°2θ、24.7±0.2°2θ和28.7±0.2°2θ处的代表性峰的x-射线粉末衍射图;
(ii)包括在约25℃的温度下和的x-射线波长λ下测量,选自下组的四个或更多个2θ值的x-射线粉末衍射图,所述组由以下组成:13.4±0.2°、20.8±0.2°、22.1±0.2°、23.5±0.2°、23.5±0.2°、23.8±0.2、24.7±0.2°2θ、26.1±0.2°2θ、26.9±0.2°2θ、28.7±0.2°2θ、30.4±0.2°2θ、31.2±0.2°2θ、33.8±0.2°2θ和38.7±0.2°2θ;以及
(iii)包括在约25℃的温度下和的x-射线波长λ下测量,选自下组的五个或更多个2θ值的x-射线粉末衍射图,所述组由以下组成:13.4±0.2°、20.8±0.2°、22.1±0.2°、23.5±0.2°、23.5±0.2°、23.8±0.2、24.7±0.2°2θ、26.1±0.2°2θ、26.9±0.2°2θ、28.7±0.2°2θ、30.4±0.2°2θ、31.2±0.2°2θ、33.8±0.2°2θ和38.7±0.2°2θ。
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