[发明专利]用于测量CVD反应器中的基座的表面温度的装置

权利要求书

1.一种用于将层沉积在衬底(10)上的设备的基座组件，具有基座(2)和布置在所述基座的上侧(3)上的多个盖板，所述盖板包括至少一个内部的盖板(4)和至少一个外部的盖板(5)，所述盖板之间具有自由空间，用于将衬底(10)围绕基座组件的中心地布置在由两个圆(a、b)限界的圆环面上，其中，外部的盖板(4)具有面朝基座(2)的下宽侧和背离基座(2)的上宽侧以及对所述上宽侧和下宽侧敞开的开口(15)，通过所述开口能够看到基座(2)的上侧(3)，其特征在于，所述开口位于圆环面中，所述开口具有最大为100mm²的面积。

2.根据权利要求1所述的基座组件，其中，所述外部的盖板(4)具有在圆弧线上延伸的周向边缘，或者其中，多个相同地设计的外部的盖板(4)能够以圆形布置，从而所述外部的盖板的沿着圆弧延伸的外边缘相互补充成一个完整的圆，由圆(a、b)限界的圆环面布置在所述完整的圆内，用于衬底(10)或者承载衬底(10)的衬底固持装置的安置位置位于所述圆环面中。

3.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述开口(15)朝向外部的盖板(4)的邻接在所述自由空间上的内边缘(25)敞开。

4.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述开口(15)距离延伸通过由外部的盖板(4)的邻接在所述自由空间上的内边缘(25)至少部分地包围的圆形面的中心的圆弧线(c)比距离在径向外侧与圆形面相切的圆弧线(a)或者在径向内侧与圆形面相切的圆弧线(b)更近。

5.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述外部的盖板(4)具有圆形的周向边缘或者是具有圆形的周向边缘的物体的部段，其中，所述外部的盖板(4)具有沿着圆弧线延伸的内边缘(25)，并且开口(15)布置在两个内边缘(25)之间或者布置成邻接在内边缘(25)上。

6.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述开口(15)的面积最大为80mm²或者最大为60mm²。

7.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述外部的盖板(4)具有朝向处理室(7)敞开的槽(17)，所述槽的底部(18)构成开口(15)。

8.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述外部的盖板(4)邻接在基座(2)的边缘(2′)上。

9.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，沿着圆盘状的基座(2)的边缘(2′)布置有多个外部的盖板(4)，所述多个外部的盖板分别具有内边缘(25)，衬底(10)的边缘、承载环(11)的边缘或者衬底固持装置(12)的边缘邻接在所述内边缘上。

10.根据权利要求9所述的基座组件，其特征在于，所述多个外部的盖板(4)分别构成成对的平行的槽(17)，所述槽朝向外部的盖板(4)的径向外部的边缘(24)敞开并且在切向上朝向衬底(10)延伸。

11.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，上侧的能够通过开口(15)看到的区段具有涂层(27)、由突起部(29)构成或者由插入基座(2)的凹部中的嵌件(28)构成，其中，嵌件(28)或者突起部(29)的端面(28′)在上侧(3)中平齐或者突伸出所述上侧(3)。

12.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，内部的盖板(5)的下侧(5′)在开口(15)的区域中支承在突起部(19)上，所述突起部封闭开口(15)。

13.根据权利要求1所述的基座组件，其特征在于，外部的盖板(4)和/或内部的盖板(5)构成窗口，衬底(10)位于所述窗口中。