[发明专利]基板处理装置以及基板处理系统在审
| 申请号: | 201980045760.5 | 申请日: | 2019-09-03 |
| 公开(公告)号: | CN112400214A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
| 发明(设计)人: | 桥本光治;清水进二;堀口博司;山本真弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/304;H01L21/306 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;向勇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 以及 系统 | ||
本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的多个基板依次搬运至多个处理单元。多个传感器部取得关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的信号。存储部基于多个传感器部所取得的信号,存储关于各个处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的数据组。一个以上的控制单元针对使用一个以上的处理单元对一组基板中的至少一片以上的基板进行的处理,基于数据组修正规程的至少一部分。
技术领域
本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理系统。成为处理对象的基板例如包括半导体基板、液晶显示设备用基板、有机EL(Electroluminescence;电致发光)显示设备等平板显示器(flat panel display)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模(photomask)用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等。
背景技术
有一种具有多个处理单元的基板处理装置,多个处理单元能使用药液等处理液来实施基板的洗净以及蚀刻等各种处理。
此外,有一种基板处理系统(参照例如专利文献1至3等),具有:多个基板处理装置;以及管理用的服务器,经由通信线路连接至多个基板处理装置。所述基板处理系统例如能复制基板处理装置之间的处理规程(processing recipe)、防止机密信息泄漏至基板处理装置的外侧的通信网络、或者通过管理用的服务器检测基板处理装置中的处理异常等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平9-153441号公报
专利文献2:日本特开平11-215160号公报
专利文献3:日本特许第4064402号说明书
发明内容
发明所要解决的问题
基板处理装置以及基板处理系统在提升各个处理单元中的处理的精度的方面存在改善的余地。
本发明鉴于上述课题而提出,目的在于提供一种可提升各个处理单元中的处理的精度的基板处理装置以及基板处理系统。
用以解决课题的手段
为了解决上述课题,第一方式的基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个所述处理单元根据用以规定处理的条件的规程对基板实施处理。所述搬运单元将一组基板中的多个基板依次搬运至多个所述处理单元。多个所述传感器部取得关于各个所述处理单元的基板处理的状况的一种以上的指标相关的信号。所述存储部基于多个所述传感器部所取得的信号,存储关于多个所述处理单元各自的基板处理的状况的一种以上的指标相关的数据组。一个以上的所述控制单元针对使用多个所述处理单元中的一个以上的处理单元对一组所述基板中的至少一片以上的基板进行的处理,基于所述数据组修正所述规程的至少一部分。
第二方式的基板处理装置是如第一方式所记载的基板处理装置,其中,一个以上的所述控制单元针对使用多个所述处理单元对一组所述基板进行的处理,进行第一规程修正,所述第一规程修正基于所述数据组统一地修正所述规程。
第三方式的基板处理装置是如第二方式所记载的基板处理装置,其中,一个以上的所述控制单元根据进行所述第一规程修正后的所述规程来设定时间排程(timeschedule),所述时间排程规定通过所述搬运单元将多个所述基板依次搬运至多个所述处理单元的时机以及在多个所述处理单元中对多个所述基板实施处理的时机。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





