[发明专利]动态成像系统

说明书

所描述的实施方式提供了动态成像系统，所述动态成像系统补偿了由于基板的翘曲引起的变形而导致的图案缺陷。所描述的方法和设备可用于产生补偿曝光图案。动态成像系统包括检查系统，检查系统被配置为将第一基板的三维轮廓测量及裸片偏移测量提供给接口，所述接口被配置为向数字光刻系统提供补偿图案数据，数字光刻系统被配置为从接口接收补偿图案数据，并利用补偿图案曝光光刻胶。

技术领域

本发明的实施方式一般涉及光光刻系统。更具体来说，本发明的实施方式涉及补偿图案缺陷的数字光刻系统。

背景技术

光刻技术广泛用于半导体元件的制造中，例如用于半导体元件的后端处理，以及显示装置，例如液晶显示器(LCD)。例如，大面积的基板经常用于液晶显示器的制造中。液晶显示器或平板显示器通常用于有源矩阵显示器(active matrix display)，例如计算器、触控面板设备、个人数字助理(PDA)、手机、电视或类似物。通常，平板显示器在每个像素处包括夹在两个板之间的作为相变材料的液晶材料的层。当跨过液晶材料或通过液晶材料施加来自电源供应器的电源时，在像素位置处控制通过液晶材料的光量，即，选择性地调制所述光的量，使得能够在显示器上生成图像。

已经采用数字光刻技术来产生用于供应电力的电特征，以选择性地调制像素位置处的液晶材料。根据这些技术，将薄膜层、然后将光敏光刻胶施加到基板的至少一个表面上。然后，图案生成器(pattern generator)利用光曝照光敏光刻胶的选定区域，以使选定区域中的光刻胶发生化学变化，以制备光刻胶的选定区域以用于随后的材料移除工艺以产生电特征。

在涉及大面积显示面板基板和曝光于后端处理的小面积半导体基板的任何光光刻工艺中遇到的一个问题是基板翘曲。如果基板翘曲，即基板具有二维或三维的弯曲，则光刻胶曝光的最终位置将偏移。此外，如果使用翘曲的基板来承载多个芯片-裸片(chip-die)，则翘曲的基板上的每个裸片具有局部的x偏移和y偏移，通常称为裸片偏移(die-shift)。光刻胶曝光的最终位置将变形并偏移，并且图案将发生偏移并断开。这导致最终产品的质量较低，甚至是显示面板和进一步的包装产品损坏。

因此，需要一种动态成像系统，这种动态成像系统能够补偿由于基板的翘曲和裸片偏移引起的变形所导致的图案缺陷。

发明内容

在一个实施方式中，提供了一种动态成像系统。系统包括平板、可移动的第一平台、第一编码器、检查系统以及数字光刻支撑件。第一平台在平板上是可支配的(disposable)。第一编码器耦接至第一平台。检查系统由耦接至平板的检查系统支撑件所支撑。数字光刻支撑件耦接至平板。第一平台配置为支撑其上设置有光刻胶的第一基板。第一编码器被配置为将第一基板的位置提供给接口。接口被配置为向数字光刻系统提供曝光图案数据。检查系统支撑件具有允许第一平台从其下方通过的开口。检查系统被配置为将第一基板的三维(3D)轮廓测量及裸片偏移测量提供给接口。接口被配置为向数字光刻系统提供补偿图案数据。数字光刻系统具有允许第一平台在其下方通过的开口。数字光刻系统被配置为从接口接收补偿图案数据，并利用补偿图案曝光光刻胶。