[发明专利]动态成像系统

权利要求书

1.一种系统，包括：

平板；

可移动的第一平台，所述第一平台在所述平板上是可支配的，所述第一平台被配置为用于支撑第一基板，所述第一基板上设置有光刻胶；

第一编码器，耦接至所述第一平台，所述第一编码器被配置为向接口提供所述第一基板的位置，所述接口被配置为向数字光刻系统提供曝光图案数据；

检查系统，由被耦接至所述平板的检查系统支撑件所支撑，所述检查系统支撑件具有允许所述第一平台从所述检查系统支撑件下面通过的开口，其中：

所述检查系统被配置为向所述接口提供所述第一基板的三维轮廓测量和裸片偏移测量；并且

所述接口被配置为向所述数字光刻系统提供补偿图案数据；以及

耦接至所述平板的所述数字光刻系统，所述数字光刻系统具有允许所述第一平台在所述数字光刻系统下方通过的开口，所述数字光刻系统被配置为从所述接口接收所述补偿图案数据，并利用补偿图案曝光所述光刻胶。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述接口将所述曝光图案数据修改为所述补偿图案数据。

3.根据权利要求1和2任一项所述的系统，其中所述检查系统包括：

检查处理单元，具有翘曲检查工具，所述翘曲检查工具具有被配置为测量所述第一基板的区域的三维轮廓的一个或多个翘曲检查模块；以及

裸片偏移检查工具，所述裸片偏移检查工具具有一个或多个裸片偏移检查模块，所述一个或多个裸片偏移检查模块被配置为在不曝光设置在所述第一基板的区域及多个裸片上的所述光刻胶的情况下测量所述多个裸片中的至少一个裸片的裸片偏移。

4.根据权利要求1-3任一项所述的系统，其中所述数字光刻系统包括：

数字光刻处理单元，所述数字光刻处理单元具有：

一个或多个数字光刻模块，被配置为利用所述补偿图案曝光设置在所述第一基板的所述区域和所述多个裸片上的所述光刻胶。

5.根据权利要求3所述的系统，其中所述检查系统更包括：

一个或多个投影机，被配置为在不化学改变设置在所述第一基板上的所述光刻胶的情况下将条纹图案投影到所述第一基板上。

6.根据权利要求3和5任一项所述的系统，其中所述一个或多个翘曲检查模块是激光三角测量模块。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述激光三角测量模块的每一者被配置为在不化学改变设置在所述第一基板上的所述光刻胶的情况下向所述第一基板提供光。

8.根据权利要求3所述的系统，其中一个或多个翘曲检查模块是彩色共焦模块。

9.根据权利要求8所述的系统，其中所述彩色共焦模块的每一者被配置为在不化学改变设置在所述第一基板上的所述光刻胶的情况下向所述第一基板提供光。

10.根据权利要求3所述的系统，更包括：

可移动的第二平台，所述第二平台在所述平板上方是可支配的，并配置为支撑第二基板，所述第二基板上设置有光刻胶；以及

第二编码器，耦接至所述第二平台，所述第二平台被配置为向所述接口提供所述第二基板的位置，其中：

所述检查系统被配置为向所述接口提供所述第二基板的三维轮廓测量及裸片偏移测量；并且

所述接口被配置为将所述曝光图案数据修改为所述补偿图案数据，并且将所述补偿图案数据提供给所述数字光刻系统，所述数字光刻系统被配置为利用所述补偿图案来曝光设置在所述第二基板上的所述光刻胶。