[发明专利]用于接收具有规则等离子沉积的晶片的等离子舟

说明书

本发明涉及一种用于接收具有部分等离子体沉积衰减的晶片的等离子舟，其由多个彼此平行间隔开的舟板组成，所述舟板设有用于垂直接收晶片的晶片接收器，以便在运输过程中以及在涂覆室内的沉积过程中牢固地保持晶片，并且，其中所述舟板通过电绝缘间隔件彼此机械连接。本发明旨在提供一种具有规则的等离子体沉积的等离子舟，所述等离子舟确保在晶片上的沉积在其表面积上是均匀的并且具有恒定的层厚。这是通过将衰减元件(12)分别布置在彼此平行定位的晶片保持器(16)之间，以及相邻的舟皿板(15)之间，并且将衰减元件(12)相对于后者在间隔元件(2)上进行电绝缘来实现的。

技术领域

本发明涉及一种用于接收具有规则等离子沉积的晶片的等离子舟(plasmaboat)，其由多个彼此平行且彼此间隔设置的舟板(boat plate)组成，所述舟板设有用于垂直接收晶片的晶片接收器，以便在运输过程中以及在涂覆室内的沉积过程中牢固地保持晶片，所述舟板通过电绝缘间隔件彼此机械连接。

背景技术

这样的等离子舟，例如，用作用于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的PECVD舟。WO2016/166125A1公开了一种这样的特别轻质的PECVD舟(PECVD boat)的示例。在这种情况下，PECVD舟由具有下部框架元件的单个舟板组成，晶片保持架从下部框架元件中突出，后者分别以U形围成一排要容纳的矩形晶片的周向边缘，并且包括多个接收元件，这些接收元件在三个点处以叉状接合晶片的周向边缘。常规地，多个这样的舟板彼此平行地布置，并且通过绝缘间隔件彼此连接，使得可以彼此平行且彼此相邻地接收多个晶片。

舟板由诸如石墨、钛的导电材料组成，使得当施加电势时在等离子体沉积期间可以在位于等离子舟中的晶片之间形成等离子体。

WO2017/085178A1公开了晶片平行分离布置的等离子舟的另一示例，其涉及晶片舟(wafer boat)和用于晶片的等离子处理装置。

一方面，PECVD舟具有在将矩形晶片传送到涂覆腔中或从涂覆腔中移出时以及在沉积期间牢固地保持矩形晶片的功能，另一方面，必须通过PECVD舟或舟板将沉积过程所需的电势施加到晶片上，以点燃涂覆过程所需的等离子体。

为了减少热质量，舟板上设有铣削的凹槽或开口，这些凹槽或开口小于要接收的晶片轮廓，或者在其中将晶片的周向边缘围成U形。

加热到所需工艺温度的所需时间尤其取决于要加热的晶片数量、PECVD舟的质量、达到均匀温度分布之前的均化时间，以及进行加热的方式。应当理解，为了有效和快速的沉积过程，加热时间以及随后的均化时间应该尽可能短。

在这些配备有晶片的晶片舟中，在等离子体沉积期间，特别是在晶片之间也形成等离子体，使得在某些区域，特别是在边缘区域中的晶片保持架和晶板附近，沉积了太多的材料，结果在这些位置上部分地形成了过厚的沉积物，使得妨碍了涂层在晶片上的均匀分布。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种等离子舟，所述等离子舟具有规则的等离子沉积，从而在晶片上实现在其区域上具有恒定层厚的均匀沉积，而加热和均化时间不会受到明显影响。

本发明的目的通过在上述介绍中提到的等离子舟类型来实现，其中，在彼此平行定位的晶片接收器之间，衰减元件分别设置在相邻的舟板之间并且与舟板电绝缘。

以这种特别简单的方式，在不显着影响加热和均化时间的情况下实现了边缘区域中等离子体沉积的部分衰减。

衰减元件设置在两个相邻的舟板之间的绝缘间隔元件上或之间，同时与它们电绝缘。

优选地，衰减元件分别由下部框架元件和两个竖直杆组成，两个竖直杆从下部框架元件彼此相距一定距离地突出并且分别延伸到两个彼此平行定位的晶片接收器之间的间隙中。

衰减元件分别覆盖大致对应于位于晶片接收器中的晶片的下部区域的区域。