[发明专利]掩模框架及掩模组件

权利要求书

1.一种掩模框架，被配置为将掩模板固定于所述掩模框架，所述掩模框架包括：

左框架，设置于左侧上；

右框架，设置于右侧上；

上框架，将所述左框架的上端部和所述右框架的上端部彼此连接；以及

下框架，将所述左框架的下端部和所述右框架的下端部彼此连接；

其中所述上框架包括：

上直线框架，在水平方向中具有线性形状；以及

上弯曲框架，与所述上直线框架间隔开，所述上弯曲框架具有左右对称形状且向上凸出弯曲，并且所述掩模板耦接于所述上弯曲框架。

2.根据权利要求1所述的掩模框架，其中所述上弯曲框架位于所述上直线框架的上方、下方、前方或后方。

3.根据权利要求2所述的掩模框架，其中所述上框架进一步包括：

上直线子框架，在与所述上直线框架和所述上弯曲框架间隔开的同时沿着所述水平方向形成为线性形状，且相对于所述上弯曲框架位于所述上直线框架的对侧。

4.根据权利要求1至3的任一项所述的掩模框架，其中所述上弯曲框架形成为圆形管或多边形管的形状且沿着所述上弯曲框架的纵向方向具有恒定截面，或者所述上弯曲框架具有字母“L”、字母“U”及字母“H”的任一者的截面形状。

5.根据权利要求1至4的任一项所述的掩模框架，其中所述上弯曲框架由钛制成，其不同于所述左框架、所述右框架及所述上直线框架的材料；

其中所述左框架、所述右框架及所述上直线框架由基本上相同的材料制成，所述基本上相同的材料选自铁镍合金、不锈钢、或包括所述铁镍合金或所述不锈钢的材料。

6.根据权利要求1至5的任一项所述的掩模框架，其中所述上弯曲框架包括位于其中的内层，及包围所述内层且耦接于所述内层的外层，

其中所述内层由不同于所述左框架、所述右框架及所述上直线框架的材料的材料制成，并且

其中所述外层由与所述左框架、所述右框架及所述上直线框架基本上相同的材料制成。

7.根据权利要求1至6的任一项所述的掩模框架，其中所述上弯曲框架具有固定螺丝，所述固定螺丝沿着所述上弯曲框架的纵向方向重复地设置，以将所述掩模板固定于所述上弯曲框架。

8.根据权利要求1至7的任一项所述的掩模框架，其中所述掩模框架具有左右及垂直对称形状。

9.一种掩模组件，包括：

多个掩模板，布置于水平方向中；以及

掩模框架，被配置为将掩模板固定于所述掩模框架，且所述掩模框架包括左框架、右框架、上框架及下框架，所述左框架设置于左侧，所述右框架设置于右侧，所述上框架在耦接于所述掩模板的上侧的同时连接所述左框架的上端部至所述右框架的上端部，所述下框架在耦接于所述掩模板的下侧的同时连接所述左框架的下端部至所述右框架的下端部，

其中所述上框架包括

上直线框架，在水平方向中具有直线形状，以及

上弯曲框架，耦接于所述掩模板，与所述上直线框架间隔开，且在具有左右对称形状的同时向上凸出弯曲，

其中所述掩模板耦接于所述上弯曲框架。

10.根据权利要求9所述的掩模组件，其中所述上弯曲框架位于所述上直线框架的上方、下方、前方或后方，

其中所述上框架进一步包括上直线子框架，所述上直线子框架在与所述上直线框架和所述上弯曲框架间隔开的同时沿着所述水平方向形成为线性形状，且相对于所述上弯曲框架位于所述上直线框架的对侧。

11.根据权利要求9或10所述的掩模组件，其中所述上弯曲框架形成为圆形管或多边形管的形状且沿着所述上弯曲框架的纵向方向具有恒定截面，或者所述上弯曲框架具有字母“L”、字母“U”及字母“H”的任一者的截面形状。

12.根据权利要求9至11的任一项所述的掩模组件，其中所述上弯曲框架由钛制成，其不同于所述左框架、所述右框架及所述上直线框架的材料，

其中所述左框架、所述右框架及所述上直线框架由基本上相同的材料制成，所述基本上相同的材料选自铁镍合金、不锈钢、或包括所述铁镍合金或所述不锈钢的材料。