[发明专利]粒子束设备

说明书

一种设备包括：用于封闭物品支撑件的真空腔；物品支撑件被配置为支撑物品使得在物品支撑件与物品之间限定有体积，物品支撑件包括被配置为为物品提供支撑平面的多个支撑突起；用于向该体积提供流体使得流体在物品与物品支撑件之间提供热传递的管路；以及用于控制向该体积的流体供应的控制器，其中控制器被配置为控制流体供应单元基本上在物品达到稳定温度时开始去除流体。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年5月28日提交的欧洲专利申请18174642.1的优先权，其全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本发明涉及一种粒子束设备、一种光刻设备以及相关的方法和组件。粒子束设备可以是电子束检查设备。

背景技术

在半导体工艺中，不可避免地生成缺陷。这样的缺陷甚至会影响器件性能，甚至导致故障。因此，器件产率可能会受到影响，从而导致成本增加。为了控制半导体工艺产率，缺陷监测很重要。用于缺陷监测的一种工具是SEM(扫描电子显微镜)，它使用一个或多个电子束扫描样品的目标部分。

在检查工具的操作期间，衬底通常由衬底台保持。检查工具通常将包括用于相对于电子束定位衬底台和衬底的衬底定位装置。这可以用于在电子束的工作范围内将目标区域定位在衬底上，即需要检查的区域。当将衬底装载到衬底台上时，衬底和衬底台可以处于不同的温度。因此，在将衬底装载到衬底台上之后，在衬底与衬底台之间存在热传递。这种热传递可能导致衬底(和/或衬底台)变形。在这样的变形过程中，即在衬底台或衬底正在经历热变形的同(例如，热膨胀)时，目标区域的检查可能无法进行或准确性降低。

一旦衬底台和衬底已经达到热平衡，衬底台和衬底将基本上保持其形状和尺寸不变，并且检查过程将不再受到热膨胀的影响。因此，为了执行准确的检查，可能需要等待相当长的一段时间才能开始检查。这降低了检查设备的产率。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种设备，包括：

真空室，用于封闭物品支撑件；

物品支撑件被配置为支撑物品使得在物品支撑件与物品之间限定有体积，物品支撑件包括被配置为为物品提供支撑平面的多个支撑突起；

管路，用于向该体积提供流体使得流体在物品与物品支撑件之间提供热传递；以及

控制器，用于控制向该体积的流体供应，

其中控制器被配置为控制流体供应单元以基本上在物品达到稳定温度的时刻开始去除流体。

这可以具有如下优点：被提供给该体积的流体提高了物品与物品支撑件之间的热传递速率，这进而减少了对于衬底调节朝向物品支撑件的温度所需要的时间量。这可以允许更快地开启粒子束。这可以提高粒子束设备的产率。这可以具有可以将真空室内的真空水平保持在期望水平的优点。可以在真空度较高的腔室内使用回填流体。

稳定温度可以包括小于1mK、10mK、100mK或1K的时间和/或空间温度变化。

真空室可以是放置物品的处理室或用于将物品转移到处理室的转移室。

粒子束设备还可以包括用于向该体积提供流体和/或从该体积中去除流体的泵。

泵可以是用于将流体泵送到该体积中的第一泵和用于将流体从该体积中泵出的第二泵。

流体可以是气体或液体。

控制器可以被配置为控制流体供应以供应流体直到物品达到稳定温度。

控制器可以被配置为控制流体供应以基本上在物品由物品支撑件支撑之后立即供应流体。

控制器可以被配置为控制流体供应使得从体积中去除流体持续特定时间段。