[发明专利]粒子束设备

权利要求书

1.一种用在光刻系统中的设备，包括：

真空室，用于封闭物品支撑件；

所述物品支撑件被配置为支撑物品，使得在所述物品支撑件与所述物品之间限定有体积，所述物品支撑件包括被配置成为所述物品提供支撑平面的多个支撑突起；

管路，用于向所述体积提供流体，使得所述流体在所述物品与所述物品支撑件之间提供热传递；以及

控制器，用于控制向所述体积的流体供应，

其中所述控制器被配置为控制流体供应单元，以基本上在所述物品达到稳定温度的时刻开始去除所述流体。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述稳定温度包括小于1mK、10mK、100mK或1K的时间和/或空间的温度变化。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述真空室是放置所述物品的处理室或用于将所述物品转移到处理室的转移室。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体供应单元包括泵，所述泵用于向所述体积提供所述流体和/或从所述体积中去除流体。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体是气体或液体。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述物品支撑件包括用于将所述物品夹持到所述支撑突起上的夹具。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述物品是图案形成装置或光刻衬底。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备是粒子束设备、电子束设备、扫描电子显微镜、电子束直接写入器、电子束投影光刻设备、电子束检查设备、电子束缺陷验证设备、电子束量测设备、光刻设备或转移设备中的一种。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备是粒子束设备，所述粒子束设备还包括：

粒子束发生器，被配置为生成粒子束以照射所述物品；以及

另外的控制器，用于控制所述粒子束发生器，

其中所述另外的控制器被配置为：如果所述体积内部的压强低于特定值，则控制所述粒子束发生器向所述物品照射所述粒子束。

10.根据权利要求9所述的设备，其中所述粒子束设备是电子束设备，所述粒子束发生器是电子光学系统，并且所述粒子束是电子束。

11.一种在真空室中执行物品的热调节的方法，所述方法包括：

向所述物品与支撑所述物品的物品支撑件之间的体积供应流体，所述流体在所述物品与所述物品支撑件之间提供热传递，所述物品支撑件包括为所述物品提供支撑平面的多个支撑突起；以及

基本上在所述物品达到稳定温度的时刻开始除去所述流体。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述稳定温度包括小于1mK、10mK、100mK或1K的时间和/或空间温度变化。

13.根据权利要求11所述的方法，还包括在所述物品由所述物品支撑件支撑的同时，间歇地供应所述流体。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述流体是气体或液体。

15.根据权利要求11所述的方法，还包括：如果所述体积内部的压强低于特定值，则使用由粒子束发生器生成的粒子束照射所述物品。