[发明专利]层叠膜及Ag合金溅射靶

说明书

一种层叠膜(10)，其具备Ag合金膜(11)及层叠于该Ag合金膜(11)的一面或两面的透明导电氧化物膜(12)，其中，Ag合金膜(11)的组成为包含5.0原子％以上且13.0原子％以下的范围内的Ge，且剩余部分为Ag及不可避免的杂质，Ag合金膜(11)的膜厚在3nm以上且10nm以下的范围内。

技术领域

本发明涉及一种能够用作例如显示器或触摸面板等透明导电配线膜或透明电极的层叠膜及形成构成该层叠膜的Ag合金膜时所使用的Ag合金溅射靶。

本申请基于2018年5月17日在日本申请的专利申请2018-095293号及2019年5月13日在日本申请的专利申请2019-090548号主张优先权，并将其内容援用于此。

背景技术

例如，在液晶显示器或有机EL显示器、触摸面板等中，作为配线，例如如专利文献1-3所示，应用设为透明导电氧化物膜与Ag膜的层叠结构的层叠膜，该Ag膜由Ag或Ag合金构成。对该层叠膜要求可见光区域的光的透射率高且电阻低。

并且，当在玻璃基板等上形成由Ag或Ag合金构成的Ag膜时，例如如专利文献4所公开，广泛利用使用由Ag或Ag合金构成的溅射靶的溅射法。

专利文献1:日本特开平09-291356号公报(A)

专利文献2:日本特开平10-239697号公报(A)

专利文献3:日本特开2016-040411号公报(A)

专利文献4:日本特开2016-164305号公报(A)

近来，在显示器或触摸面板等中，配线及电极的微细化进一步发展，进而由于大画面化而配线及电极的长度变长，作为透明导电配线膜或透明电极，比以往更加要求电阻低且可见光区域的透射率优异的层叠膜。即，对该层叠膜要求优异的电特性及光学特性。

在此，在设为透明导电氧化物膜与由Ag或Ag合金构成的Ag膜的层叠结构的层叠膜中，为了实现透射率的进一步提高，需要使由Ag或Ag合金构成的Ag膜的膜厚变薄。

然而，当简单地使Ag膜变薄时，Ag容易凝聚，因此存在Ag膜变成不连续膜并且电阻增加的问题。并且，存在由于Ag的凝聚，反而导致透射率大幅降低的问题。

尤其，将膜厚设为10nm以下时，Ag凝聚而Ag膜容易成为不连续膜，无法获得电特性及光学特性优异的层叠膜。

此外，在批量生产时，在成膜装置中可能会以包含残留气体(水蒸气等)的状态成膜。当在包含水蒸气的气氛下形成Ag膜时，由于水蒸气而导致在Ag膜的表面促进Ag的凝聚，从而可能无法稳定地形成Ag膜。

发明内容

该发明是鉴于前述情况而完成的，其目的在于提供一种例如具有10nm以下的薄的膜厚的Ag合金膜，且电特性及光学特性优异，尤其适合于透明导电配线膜或透明电极的层叠膜、及形成构成该层叠膜的Ag合金膜时所使用的Ag合金溅射靶。

为了解决上述课题，本发明的一方式的层叠膜(以下，称为“本发明的层叠膜”)为具备Ag合金膜及层叠于该Ag合金膜的一面或两面的透明导电氧化物膜的层叠膜，所述层叠膜的特征在于，所述Ag合金膜的组成为包含5.0原子％以上且13.0原子％以下的范围内的Ge，且剩余部分为Ag及不可避免的杂质，所述Ag合金膜的膜厚在3nm以上且10nm以下的范围内。

根据本发明的层叠膜，所述Ag合金膜的组成为包含5.0原子％以上且13.0原子％以下的范围内的Ge，且剩余部分为Ag及不可避免的杂质，因此Ag的扩散通过Ge而得到抑制，即使在将Ag合金膜的膜厚较薄地形成为3nm以上且10nm以下的情况下，也能够抑制Ag的凝聚，并且能够抑制Ag合金膜成为不连续膜。并且，即使在包含水蒸气的气氛下成膜时，也能够抑制Ag膜的表面的Ag的凝聚，并且即使通过排气能力差的批量生产装置成膜时，也能够抑制Ag合金膜成为不连续膜。