[发明专利]气动支撑装置和具备气动支撑装置的光刻设备

权利要求书

1.一种用于光刻设备的气动支撑装置，

其中所述气动支撑装置包括：

-气弹簧，包括：

-悬挂部件，

-被悬挂部件，以及

-压力腔室，被配置用于相对于所述悬挂部件支撑所述被悬挂部件，

-致动器，被配置成相对于所述悬挂部件定位所述被悬挂部件，

-加速度传感器，被配置成产生表示所述悬挂部件的加速度的第一传感器信号；

-压力传感器，被配置成产生表示所述压力腔室中的压力的第二传感器信号，以及

-控制单元，被配置成：

-接收所述第一传感器信号，

-接收所述第二传感器信号，

-在低通滤波器中对所述第一传感器信号进行滤波，

-在高通滤波器中对所述第二传感器信号进行滤波，

-基于经滤波的所述第一传感器信号和经滤波的所述第二传感器信号来确定由所述悬挂部件对所述被悬挂部件施加的力，以及

-基于所述力产生针对所述致动器的控制信号。

2.根据权利要求1所述的气动支撑装置，

其中所述高通滤波器是所述低通滤波器的逆。

3.根据前述权利要求中的一项所述的气动支承装置，

其中所述低通滤波器和所述高通滤波器各自具有截止频率，所述低通滤波器的截止频率低于所述高通滤波器的截止频率。

4.根据权利要求3所述的气动支撑装置，

其中所述低通滤波器和所述高通滤波器各自具有斜率，所述低通滤波器的斜率是所述高通滤波器斜率的逆。

5.根据前述权利要求中的一项所述的气动支撑装置，

其中所述低通滤波器和所述高通滤波器各自具有截止频率，并且

其中这些截止频率高于所述悬挂频率。

6.根据前述权利要求中的一项所述的气动支撑装置，

其中所述低通滤波器和所述高通滤波器各自具有截止频率，并且

其中这些截止频率低于所述第一声学谐振频率。

7.根据前述权利要求中的一项所述的气动支撑装置，

其中所述低通滤波器和所述高通滤波器各自具有截止频率，并且

其中这些截止频率低于所述第一声学反谐振频率。

8.根据前述权利要求中的一项所述的气动支撑装置，其中所述高通滤波器和所述低通滤波器被配置为电子滤波器、模拟电子滤波器或数字电子滤波器。

9.根据前述权利要求中的一项所述的气动支撑装置，

其中所述气弹簧的所述悬挂部件包括气缸，并且所述气弹簧的所述被悬挂部件包括活塞，所述活塞能够移动地布置于所述气缸中，并且所述气缸和所述活塞界定所述压力腔室，

其中所述气动支撑装置还包括：

-开口，被配置成供应经加压气体进入所述压力腔室，以及

-管道，被配置成将所述开口连接到压力源以用于将经加压气体供应到所述压力腔室，

其中所述压力传感器被布置于所述压力腔室或所述开口中，并且被配置成分别地测量所述压力腔室或所述开口中主导的压力。

10.根据权利要求9所述的气动支撑装置，

其中所述压力传感器布置于所述气缸的底部的面对所述压力腔室的一侧上。

11.一种光刻设备，包括至少一个根据前述权利要求中的一项所述的气动支撑装置。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述光刻设备还包括投影系统，所述投影系统被配置成将经图案化的辐射束投影到衬底上的，所述投影系统包括多个光学元件。

13.根据权利要求12所述的设备，其中所述多个光学元件包括多个反射镜和多个反射镜致动器，所述多个反射镜致动器被配置成定位所述反射镜。