[发明专利]光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法

说明书

本发明的光学薄膜是在基材上设置的光学薄膜，具有：含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层；和在该硅氧化物层上设置、含有氟化物的防水层，采用纳米压痕所测定的所述硅氧化物层的硬度为9GPa以上，采用AFM所测定的所述防水层的算术平均粗糙度为0.7nm以上。

技术领域

本发明涉及光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法，特别涉及具有良好的滑落性并且作为室外透镜使用时所需的耐久性优异、另外生产率良好的光学薄膜等。

背景技术

例如为了车辆的驾驶支持，进行了在车辆中搭载车载相机。更具体地，将拍摄车辆的后方、侧方的相机搭载于汽车的车体，将通过该相机所拍摄的影像显示在驾驶员可视认的位置，由此减少死角，从而能够有助于安全驾驶。

但是，车载相机多安装于车外，在其透镜上常常附着水滴、泥等污物。根据附着于透镜的水滴、污物的程度，用相机所拍摄的图像有可能变得不鲜明。

以往，提供有接触角大的防水材料、即使指纹等污物附着也能够容易地擦除的具有表面滑动性的表面处理剂(例如参照专利文献1。)。但是，即使将这样的表面处理剂用于透镜，也不能满足水滴除去的性能。

其中，为了提高水滴除去性能，需要增大透镜的表面粗糙度，作为其手段，通过使在防反射层的成膜中一般所使用的离子辅助沉积(Ion Assisted Deposition)(以下也简称为“IAD”。)法中的离子束照射强度降低、或者降低成膜速度等降低成膜能量，能够控制表面粗糙度。

但是，如果降低离子束照射强度、或者降低成膜速度，则防反射层的膜质变得疏松，不能确保车载用途等的室外透镜所需要的耐久性(可靠性)。

另一方面，为了控制透镜的表面粗糙度，有采用蚀刻、机械加工等的表面加工，这种情况下，存在由于加工时间的增加而使生产率大幅降低的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-253232号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明鉴于上述问题·状况而完成，其解决课题在于提供具有良好的滑落性并且作为室外透镜使用时所需的耐久性优异、另外生产率良好的光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明人为了解决上述课题，在对上述问题的原因等研究的过程中，发现：通过形成为在含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层上设置有防水层的构成、上述硅氧化物层的表面硬、另外防水层的表面适度地粗糙，能够提供耐久性也优异并且具有良好的滑落性的光学薄膜等，完成了本发明。

即，就本发明涉及的上述课题而言，采用以下的步骤而解决。

1.光学薄膜，其为在基材上设置的光学薄膜，具有：

含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层；和

在该硅氧化物层上设置、含有氟化物的防水层，

采用纳米压痕所测定的上述硅氧化物层的硬度为9GPa以上，

采用AFM所测定的上述防水层的算术平均粗糙度为0.7nm以上。

2.第1项所述的光学薄膜，其中，在上述硅氧化物层下具备具有比上述硅氧化物层的折射率高的折射率的高折射率层。

3.第2项所述的光学薄膜，其中，上述高折射率层包含铪(Hf)的氧化物。

4.第2项所述的光学薄膜，其中，上述高折射率层包含钛(Ti)的氧化物和镧(La)的氧化物。